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用喇曼光谱方法研究注钕硅单晶中损伤层的温度特性

作者姓名：	黄春晖刘洪图

作者单位：	中国科学技术大学物理系(黄春晖，刘洪图，金怀诚，吴志强)，中国科学技术大学物理系(许存义)

摘要：
关键词：	硅单晶喇曼光谱法损伤层钕
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