| 基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响 |
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| 引用本文： | 刘子丽,肖峻,蒋向东,孙继伟.基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响[J].电子器件,2010,33(2):135-138. |
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| 作者姓名： | 刘子丽 肖峻 蒋向东 孙继伟 |
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| 作者单位： | 1. 西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041
2. 电子科技大学光电信息学院,成都,610054 |
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| 摘 要： | 为了制备具有紫外光电特性的TiO2薄膜,采用直流磁控溅射(DC)的方法在不同温度的玻璃基片上制备了TiO2薄膜。通过用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)测试薄膜的晶体结构、表面形貌和薄膜组成成分。结果表明:当基片温度在250℃及以上时,制备出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜,并且有较好化学计量比。TiO2薄膜电阻在紫外光照射下的响应时间随基片温度的升高而减少。
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 基片温度 直流磁控溅射 紫外光电特性 |
Effect of Substrate Temperature on the microstructure of TiO2 thin films and UV photoelectric properties |
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| LIU Zili,XIAO Jun,JIANG Xiangdong,SUN Jiwei.Effect of Substrate Temperature on the microstructure of TiO2 thin films and UV photoelectric properties[J].Journal of Electron Devices,2010,33(2):135-138. |
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| Authors: | LIU Zili XIAO Jun JIANG Xiangdong SUN Jiwei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2 thin film substrate temperature DC magnetron sputtering UV photoelectric properties |
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