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半自动刷片机

作者姓名：	科学院半导体所402组

摘要：	随着半导体工艺水平的发展,对硅片的清洗要求日益提高.以前用大量去离子水冲洗也往往不能使大量沾污物离开硅片表面.为解决此问题我们制作了两台刷片机,并在工艺线试用效果较好.
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