英特尔推动EUV光刻技术研发

英特尔公司正投大量精力用于远紫外线(EUV)光刻技术(用于制造未来微处理器的技术)开发，现在已经在EUV技术上取得两项重要成果里程碑式的突破。该公司安装了全球第一套商用EUV光刻工具，并建立了一条EUV掩模试产线，表明该技术已从研发阶段进入试验阶段。英特尔预计此技术将于2009年开始应用到大批量生产中。