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超声喷雾法制备In2S3薄膜及后续快速热处理对薄膜性能的影响
引用本文:陈雄飞,汪雷,杨德仁. 超声喷雾法制备In2S3薄膜及后续快速热处理对薄膜性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(5): 1069-1072
作者姓名:陈雄飞  汪雷  杨德仁
作者单位:浙江大学材料科学与化学工程系硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金,国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:采用超声喷雾法制备了硫化铟(In2S3)薄膜,并考察了后续快速热处理(rapid thermal process,RTP)对硫化铟薄膜性能的影响.采用扫描电镜(SEM),X射线衍射(XRD)等手段对薄膜的形貌、结构、透射率等性质进行了表征.结果表明:超声喷雾法制备的In2S3,薄膜均匀致密,采用RTP热处理可提高薄膜的结晶性能,但对薄膜的透光性影响较小.通过计算可以得出薄膜的禁带宽度约为2.25~2.38 eV.

关 键 词:硫化铟  快速热处理  超声喷雾法,

Preparation of In2Ss Thin Films by Ultrasonic Spray Pyrolysis and the Influence of Post Rapid Thermal Process
CHEN Xiong-fei,WANG Lei,YANG De-ren. Preparation of In2Ss Thin Films by Ultrasonic Spray Pyrolysis and the Influence of Post Rapid Thermal Process[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(5): 1069-1072
Authors:CHEN Xiong-fei  WANG Lei  YANG De-ren
Abstract:
Keywords:
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