| 湿法刻蚀腔室结构数值优化 |
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| 引用本文： | 王伟,向东,杨为,夏焕雄,张瀚.湿法刻蚀腔室结构数值优化[J].人工晶体学报,2014,43(5):1110-1114. |
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| 作者姓名： | 王伟 向东 杨为 夏焕雄 张瀚 |
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| 作者单位： | 重庆大学机械传动国家重点实验室,重庆,400044;清华大学精密仪器与机械学系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家科技重大专项(2011Z02403-004) |
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| 摘 要： | 为确定某种新型刻蚀机最优的晶圆与喷淋头间距(Gap),通过CFD仿真分析气体在不同Gap腔室内的物质输运分布,并结合乙醇环境下HF酸刻蚀SiO2工艺的物理化学过程,建立了刻蚀速率估算公式,以此分析了不同Gap腔室的刻蚀速率及刻蚀均匀性,最终获得了具有最佳刻蚀效果的腔室结构.研究分析表明:Gap较小时晶圆中心刻蚀速率偏高,Gap较大时晶圆边缘刻蚀速率偏高;平均刻蚀速率随着Gap的增大逐渐降低,而刻蚀不均匀度随Gap增大先减小后增大,在Gap取值70 mm时刻蚀均匀性最佳且刻蚀速率较高.
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| 关 键 词： | 刻蚀腔室 流场仿真 均匀性 刻蚀速率 |
Numerical Optimization of a Chamber Structure Design for the Wet Etching |
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| WANG Wei,XIANG Dong,YANG Wei,XIA Huan-xiong,ZHANG Han.Numerical Optimization of a Chamber Structure Design for the Wet Etching[J].Journal of Synthetic Crystals,2014,43(5):1110-1114. |
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| Authors: | WANG Wei XIANG Dong YANG Wei XIA Huan-xiong ZHANG Han |
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