| Institution: | 1. Instituto de Física ‘ Armando Dias Tavares’, Universidade do Estado do Rio de Janeiro -UERJ, Rua São Francisco Xavier, 524, 20550-013 RJ, Brazil;2. Departamento de Ciências Exatas e da Terra, Unifesp, 09972-270, Diadema, Brazil;3. Instituto de Física Gleb Wataghin, Universidade Estadual de Campinas-UNICAMP, Caixa Postal 6165, 13083-970, Campinas, SP, Brazil;4. Divisão de Metrologia de Materiais, Instituto Nacional de Metrologia, Normalização e Qualidade Industrial (INMETRO), 25250-020, Duque de Caxias, RJ, Brazil;1. Instituto Nacional de Telecomunicações (Inatel), Av. João Camargo 510, Santa Rita do Sapucaí, MG, Brazil;2. Faculdade de Tecnologia, UNICAMP, R. Paschoal Marmo1888, Limeira, SP, Brazil;3. Instituto de Estudos Avançados – IEAv, São José dos Campos, SP, Brazil;4. Instituto de Física Gleb Wataghin, UNICAMP, R. Sergio Buarque de Holanda 777, Campinas, SP, Brazil;1. Grup de Magnetisme, Dept. Física Fonamental, Facultat de Física, Universitat de Barcelona, Martí i Franquès 1, planta 4, edifici nou, 08028 Barcelona, Spain;3. Key Laboratory of Materials Physics, Institute of Solid State Physics, Chinese Academy of Sciences, Hefei 230031, China;1. Key Laboratory of Electromagnetic Processing of Materials (Ministry of Education), Northeastern University, Shenyang 110819, China;2. Institut für Anorganische und Analytische Chemie, Universität Münster, Corrensstrasse 30, D-48149 Münster, Germany;3. Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (HZDR), Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, P.O. Box 510119, 01314 Dresden, Germany;1. Instituto de Física, Universidad de Antioquia UdeA, Calle 70 No. 52-21, Medellín, Colombia;2. Instituto de Física, Universidade Federal de Alagoas, Maceió-AL 57072-970, Brazil;3. Instituto de Física, Universidade Estadual de Campinas - Unicamp, Campinas - SP 13083-859, Brazil |
