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纳米VO2多晶材料的低温相变和随机阻抗网络模型
引用本文:熊笔锋,马宏.纳米VO2多晶材料的低温相变和随机阻抗网络模型[J].半导体光电,2009,30(4):571-573.
作者姓名:熊笔锋  马宏
作者单位:深圳化合物半导体研究院,广东,深圳,518107;深圳化合物半导体研究院,广东,深圳,518107
摘    要:制备了纳米VO2多晶薄膜材料,其相变温度为35℃,实验测量了它的电阻-温度(R-T)曲线和热滞回线,并用随机阻抗网络模型进行了R-T曲线和热滞回线模拟,两者显示出结果一致,表明在低温相变温度35℃下,随机阻抗网络模型适用于纳米VO2多晶薄膜R-T曲线和热滞回线.此外,给出了VO2多晶材料在半导体区和金属区的简化随机阻抗网络模型的电阻公式.

关 键 词:纳米VO2  热滞回线  随机阻抗网络模型

Low Temperature Phase Transition and Random Resistor Network in Nano-VO2 Polycrystalline Thin Films
XIONG Bi-feng,MA Hong.Low Temperature Phase Transition and Random Resistor Network in Nano-VO2 Polycrystalline Thin Films[J].Semiconductor Optoelectronics,2009,30(4):571-573.
Authors:XIONG Bi-feng  MA Hong
Abstract:
Keywords:
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