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SiC热氧化SiO2的红外光谱研究
引用本文:田晓丽,龚敏,曹群,石瑞英.SiC热氧化SiO2的红外光谱研究[J].半导体光电,2009,30(1):80-83.
作者姓名:田晓丽  龚敏  曹群  石瑞英
作者单位:四川大学物理学院微电子学系,微电子技术四川省重点实验室,成都610065;四川大学物理学院微电子学系,微电子技术四川省重点实验室,成都610065;四川大学物理学院微电子学系,微电子技术四川省重点实验室,成都610065;四川大学物理学院微电子学系,微电子技术四川省重点实验室,成都610065
基金项目:教育部高等学校博士学科点专项科研基金
摘    要:SiC热氧化时由于C元素的存在及其诱生的空位型缺陷,影响SiO2层的质量、SiO2/SiC界面及SiC MOS器件的击穿特性.采用红外光谱技术研究了6H-SiC上热氧化生长的SiO2层,分析和讨论了SiO2氧化层及界面态的红外反射特征峰,对偏振入射光与SiO2振动模的相互作用进行了分析.对C元素的红外光谱学表征进行了初步研究,从而为工艺中对SiO2层中C元素的实时检测和进一步改善SiC MOS器件电学特性的研究打下基础.

关 键 词:红外反射光谱  6H-SiC  空位型缺陷  偏振  界面态

Infrared Spectroscopy of SiO2 Film Grown on SiC by Thermal Oxidation
TIAN Xiao-li,GONG Min,CAO Qun,SHI Rui-ying.Infrared Spectroscopy of SiO2 Film Grown on SiC by Thermal Oxidation[J].Semiconductor Optoelectronics,2009,30(1):80-83.
Authors:TIAN Xiao-li  GONG Min  CAO Qun  SHI Rui-ying
Abstract:
Keywords:6H-SiC
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