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HFCVD系统中衬底接触热阻的研究
引用本文:李磊,左敦稳,徐锋,黎向锋,卢文壮.HFCVD系统中衬底接触热阻的研究[J].人工晶体学报,2007,36(1):27-31,51.
作者姓名:李磊  左敦稳  徐锋  黎向锋  卢文壮
作者单位:南京航空航天大学机电学院,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016;南京航空航天大学机电学院,南京,210016
摘    要:建立了热丝CVD大面积金刚石膜沉积的衬底温度场模型,对影响衬底温度场的接触热阻及其他相关沉积参数进行了模拟计算。根据实验结果,对接触热阻的计算公式进行了修正。当ζ=0.75时,计算结果和实验结果基本上吻合。在仿真条件下,考虑衬底三维热传导以及热丝温度的不均匀分布使衬底温度场的均匀性明显优于纯热辐射下的温度场。这些计算结果为制备大面积高质量的金刚石薄膜提供了理论基础。

关 键 词:热丝化学气相沉积法  接触热阻  有限元  温度场  金刚石膜
文章编号:1000-985X(2007)01-0027-05
修稿时间:2006-08-07

Determination of Thermal Contact Resistance between Substrate and Its Support in Hot Filament CVD
LI Lei,ZUO Dun-wen,XU Feng,LI Xiang-feng,LU Wen-zhuang.Determination of Thermal Contact Resistance between Substrate and Its Support in Hot Filament CVD[J].Journal of Synthetic Crystals,2007,36(1):27-31,51.
Authors:LI Lei  ZUO Dun-wen  XU Feng  LI Xiang-feng  LU Wen-zhuang
Institution:College of Mechanical and Electrical Engineering, Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Nanjing 210016, China
Abstract:
Keywords:HFCVD  thermal contact resistance  finite element method(FEM)  temperature distribution  diamond film
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