| 用等离子体辅助分子束外延生长氧化锌单晶薄膜 |
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| 引用本文： | 梁红伟,颜建锋,吕有明,申德振,刘益春,赵东旭,李炳辉,张吉英,范希武,范景田. 用等离子体辅助分子束外延生长氧化锌单晶薄膜[J]. 发光学报, 2004, 25(2): 147-150 |
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| 作者姓名： | 梁红伟 颜建锋 吕有明 申德振 刘益春 赵东旭 李炳辉 张吉英 范希武 范景田 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033;长春职业技术学院,吉林,长春,130021 |
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| 基金项目： | 国家“863”高技术项目,新材料领域(2001AA31112)，中国科学院创新项目，中国科学院百人计划项目，国家自然科学基金(60176003,60278031) |
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| 摘 要： | 利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)方法,通过优化生长条件,在c平面蓝宝石(Al_2O_3)上生长出氧化锌(ZnO)单晶薄膜。使用反射式高能衍射仪(RHEED)原位监测到样品表面十分平整,X射线摇摆曲线(XRC)测得ZnO薄膜的<002>取向半峰全宽为0.20°,证实为ZnO单晶薄膜。室温下吸收谱(ABS)和光致发光(PL)谱显示了较强的激子吸收和发射,且无深能级(DL)发光。电学性能测量表明,生长的ZnO为n型半导体,室温下载流于浓度为7×10~(16) cm~(-3),与体单晶ZnO中的载流子浓度相当。
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| 关 键 词： | 氧化锌单晶薄膜 射频等离子体 分子束外延 蓝宝石衬底 |
| 文章编号： | 1000-7032(2004)02-0147-04 |
| 修稿时间： | 2003-01-28 |
Growth of Zinc Oxide Single Crystal Thin Films by Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy |
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| LIANG Hong-wei,YAN Jian-feng,Lu You-ming,SHEN De-zhen,LIU Yi-chun,ZHAO Dong-xu,LI Bing-hui,ZHANG Ji-Ying,FAN X W,HUA Jing-tian Key Laboratory of Excited State Processes,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics Chinese Academy of Sciences,Changchun ,China,Changchun Institute of Professionol Technique,Changchun ,China. Growth of Zinc Oxide Single Crystal Thin Films by Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2004, 25(2): 147-150 |
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| Authors: | LIANG Hong-wei YAN Jian-feng Lu You-ming SHEN De-zhen LIU Yi-chun ZHAO Dong-xu LI Bing-hui ZHANG Ji-Ying FAN X W HUA Jing-tian Key Laboratory of Excited State Processes Changchun Institute of Optics Fine Mechanics Physics Chinese Academy of Sciences Changchun China Changchun Institute of Professionol Technique Changchun China |
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| Affiliation: | LIANG Hong-wei,YAN Jian-feng,Lu You-ming,SHEN De-zhen,LIU Yi-chun,ZHAO Dong-xu,LI Bing-hui,ZHANG Ji-Ying,FAN X W,HUA Jing-tian Key Laboratory of Excited State Processes,Changchun Institute of Optics,Fine Mechanics and Physics Chinese Academy of Sciences,Changchun 130033,China,Changchun Institute of Professionol Technique,Changchun 130021,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO single crystal thin film RF plasma molecular beam epitacy sapphire substrate |
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