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1.
微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构 总被引:1,自引:0,他引:1
以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 . 相似文献
2.
分析了常规金属靶激光等离子体源产生固体碎屑的原因及其对软X射线光学元件的危害,介绍了近年来发展起来的无碎屑激光等离子体软X射线源,归纳了无碎屑激光等离子体软X射线源的几种形式和特点,并且描述了这种新型光源在软X射线显微术及光刻术中的应用. 相似文献
3.
郭鸿禧 《北京交通大学学报(自然科学版)》1996,(4)
讨论了应用磁通门传感器和亥姆霍兹线圈进行软磁性材料静态磁参数的开磁路测量方法,它操作方便,并能保证测量数据的精度和可靠性,是十分便捷有效的测量手段. 相似文献
4.
5.
采用溶胶 凝胶法制备了Zn2SiO4∶Mn薄膜并结合毛细管微模板技术实现了薄膜的图案化,利用X射线衍射(XRD),原子力显微镜,光学显微镜,发光光谱等手段对Zn2SiO4∶Mn的结晶过程、发光性质进行了研究。XRD结果表明,溶胶 凝胶法合成的样品在800℃时已开始结晶,在1000℃时可得到纯相的Zn2SiO4∶Mn,这比传统的固相法的烧结温度低150℃。Zn2SiO4∶Mn薄膜的激发光谱在220nm和280nm之间有一个强的吸收峰,峰值位于248nm,发射光谱的最大值位于522nm,为绿光发射。从原子力显微镜照片可知组成薄膜的粒子比较均匀,其平均直径为220nm。我们获得了四种图案化宽度,分别是5,10,20,50μm。光学显微镜的结果表明,图案薄膜烧结后相对于烧结前有10%~20%的收缩。 相似文献
6.
类锂硅离子软X射线激光研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在激光等离子体典型参数条件下,利用碰撞-辐模型计算了类锂硅离子5f-3d和4f-3d跃的粒子数反转比率和激光增益系数。讨论了不同热带条件和不同冷却速度下,激光增益系统数的变化。计算结果表明,高功率,短脉冲激光生产的高温等离子体在快速冷却条件下能产生软X射的线激光增益。 相似文献
7.
超软X射线流气式正比计数管 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍了一种用于测量183~933eV超软X射线的圆柱形、侧窗式、流气式正比计数管,工作气体是0.11MPa的P-10气体或氦气-丙烷混合气体。计数管内径为φ25mm,直径为φ0.3mm的入射窗是由厚度80~90μgcm~2聚乙烯甲醛制成的。该计数管的特点:(1)薄窗,对软X射线透过率高。(2)流气式,工作寿命长。(3)能量分辨率好。(4)计数率高(1×10~(14)个/s)。(5)可测能区宽(0.183~10keV)。(6)可以方便更换窗膜材料、厚度及窗口直径。近几年来该计数管已经为高强度低能X光源提供较好监测。 相似文献
8.
简述了国内外软X射线波带片的发展及其最新研究成果。根据光波的矢量分析方法,数值模拟计算了入射波长为软X射线显微术中常用的2.3、3.2和4.5nm时,以不同材料制作的位相波带片其衍射效率随材料厚度的变化曲线,初步确定出适于制作位相波带片的几种材料。简要介绍了拟采取的制作软X射线位相波带片的方法。 相似文献
9.
10.
本文用多组态HXR自洽场方法和优化以Slater径向积分法相结计算了类锂离子(Z=13~17,19)1s~2nl~2LJ(2≤n≤5,0≤l≤4)能级之间的跃迁波长和振子强度,并和实验进行了比较。就软X射线激光跃迁4f—3d而言,本文计算的波长值比其它文献的计算值更接近于观测值。 相似文献