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1.
非傍轴平顶高斯光束M2因子两种定义的比较研究   总被引:3,自引:2,他引:1  
基于功率密度的二阶矩方法,推导出了非傍轴平顶高斯(FG)光束束宽和远场发散角的解析表达式·研究表明,当w0/λ→0时,远场发散角趋于渐近值θmax=63.435°,与阶数无关·使用非傍轴高斯光束代替傍轴高斯光束作为理想光束,研究了非傍轴FG光束的M2因子,并与传统定义的M2因子作了比较·在非傍轴范畴,非傍轴FG光束的M2因子不仅与阶数N有关,而且与w0/λ有关·按照定义,当w0/λ→0时,非傍轴FG光束的M2因子不等于0,对阶数N=1,2,3时,M2因子分别趋于0.913,0.882和0.886·当N→∞时,M2因子取最小值M2min=0.816·  相似文献   
2.
非傍轴平顶高斯光束M2因子两种定义的比较研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
康小平  吕百达 《光子学报》2006,35(3):431-434
基于功率密度的二阶矩方法,推导出了非傍轴平顶高斯(FG)光束束宽和远场发散角的解析表达式.研究表明,当w0/λ→0时,远场发散角趋于渐近值θmax=63.435°,与阶数无关.使用非傍轴高斯光束代替傍轴高斯光束作为理想光束,研究了非傍轴FG光束的M2因子,并与传统定义的M2因子作了比较.在非傍轴范畴,非傍轴FG光束的M2因子不仅与阶数N有关,而且与w0/λ有关.按照定义,当w0/λ→0时,非傍轴FG光束的M2因子不等于0,对阶数N=1, 2, 3时,M2因子分别趋于0.913,0.882和0.886.当N→∞时,M2因子取最小值M2min=0.816.  相似文献   
3.
作为一种新兴的检测手段 ,激光光声光谱技术与其他检测技术相比具有很多优点。本文设计的光声光谱仪用激光做光源 ,有两个光声池 ,分别用来放置参考样品和待测样品 ,输出结果为二者光声信号的比值。利用这一比值 ,可以由参考样品的性能参数方便地求出待测样品的相关性能参数。该光声光谱仪有效地减小了本底吸收噪声的影响 ,提高了信噪比 ,扩大了固体光声理论的应用范围。本文还阐述了该光声光谱仪在定性定量分析中的一些应用  相似文献   
4.
大口径光束波前采样器(孔栅)的研制   总被引:2,自引:0,他引:2  
应用平面波角谱理论,分析了采样器对光波场采样和分光的基本原理以及对空间采样频率的选择规则,描述了实际研制的大口径采样器的结构设计,并通过数值方法和高能激光大气传输实验研究了高能激光经采样器前/后的远场光斑分布关系。结果表明:利用光束波前采样器能高保真地实现对高能激光束的分光。  相似文献   
5.
超短脉冲贝塞尔光束的非近轴效应对传输的影响   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
 对超短脉冲贝塞尔光束在近轴近似和非近轴情况下自由空间中的传输作了研究。结果表明,其空间波形在传输中保持贝塞尔形状不变,不受非近轴效应影响;然而当空间参数较大时,非近轴效应影响超短脉冲贝塞尔光束的时间波形。  相似文献   
6.
本文报道了用于多光束分束器的反射式16位相值二元光学器件的制作。该二元光学器件把一束光束分成5×5光束阵列。测量的衍射效率为76.16%,接近理论设计值79.68%。该二元光学器件的有效孔径为10mm×10mm。  相似文献   
7.
用过氧聚钨酸(PPTA)水溶液,通过离心涂膜法在显微镜载玻片上制备了具有光滑表面且厚度为100nm的PPTA薄膜,利用PPTA薄膜在紫外光照下可研制光栅以及其它光学元件的薄膜材料,具有很高的利用价值。  相似文献   
8.
不同频段的位相误差对输出光束将产生不同的影响,低频段主要影响远场焦斑主斑的能量分布,中高频段影响光的散射或者可能出现的较大的强度峰值调制,高频段影响光的散射,导致能量的损失。研究光学元件引入的位相误差与输出光束之间的定性、定量关系,首先必须对位相误差进行相应的滤波处理,反映光学元件面形的细微误差。  相似文献   
9.
厚高阶光学非线性介质Z扫描的变分法分析   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用变分法对具有五阶光学非线性介质的Z扫描特性进行了研究。通过比较,发现当介质在具有较大的五阶非线性系数或较大光强的情况下,五阶非线性项的作用是不可忽略的。这对光限制器的设计和Z扫描实验都具有一定的指导意义。  相似文献   
10.
高斯光束计算平板波导自由传输区远场分布及其修正   总被引:2,自引:2,他引:0  
对近轴近似条件下求解亥姆霍兹方程得到的高斯光束显式传播公式做了分析,同时,基于基尔霍夫衍射理论,在菲涅耳近似的条件下给出了相应的高斯光束在远场的传播公式,在此基础上,对近轴近似条件做出了定量分析,给出了这个近似条件引入的误差,提出了一种计算高斯光束远场分布的修正方法,并采用有限差分-光束传播方法(FD-BPM)来检验各种方法的准确性。把这种修正方法应用到平面光集成波导器件,如阵列波导光栅(AWG)、蚀刻衍射光栅(EDG)等器件的设计和模拟中,可以大大降低工作的复杂性,同时可以得到精确的结果。  相似文献   
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