全文获取类型
收费全文 | 2856篇 |
免费 | 493篇 |
国内免费 | 244篇 |
专业分类
化学 | 129篇 |
晶体学 | 216篇 |
力学 | 72篇 |
综合类 | 19篇 |
数学 | 2篇 |
物理学 | 914篇 |
综合类 | 2241篇 |
出版年
2024年 | 15篇 |
2023年 | 65篇 |
2022年 | 67篇 |
2021年 | 84篇 |
2020年 | 52篇 |
2019年 | 65篇 |
2018年 | 34篇 |
2017年 | 74篇 |
2016年 | 67篇 |
2015年 | 86篇 |
2014年 | 165篇 |
2013年 | 201篇 |
2012年 | 230篇 |
2011年 | 216篇 |
2010年 | 210篇 |
2009年 | 234篇 |
2008年 | 216篇 |
2007年 | 207篇 |
2006年 | 178篇 |
2005年 | 149篇 |
2004年 | 138篇 |
2003年 | 114篇 |
2002年 | 101篇 |
2001年 | 76篇 |
2000年 | 72篇 |
1999年 | 88篇 |
1998年 | 61篇 |
1997年 | 61篇 |
1996年 | 44篇 |
1995年 | 48篇 |
1994年 | 35篇 |
1993年 | 33篇 |
1992年 | 18篇 |
1991年 | 18篇 |
1990年 | 30篇 |
1989年 | 14篇 |
1988年 | 12篇 |
1987年 | 7篇 |
1986年 | 5篇 |
1985年 | 2篇 |
1948年 | 1篇 |
排序方式: 共有3593条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1.
通过对新疆天业集团电厂直流系统运行中出现的故障进行分析,找出直流系统接地故障的原因,以及解决的方法和措施,对以后的检修维护起到借鉴指导作用。 相似文献
2.
YBCO超导薄膜临界温度TC的直流测量方法的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
国家超导中心组织啊四个单位对YBCO超导薄膜临界温度TC直流测试方法进行了研究。各单位测得的TC的变化系数小于1%。 相似文献
3.
通过反应磁控溅射过程中的等离子体发射光谱,研究了制备ZnO薄膜的沉积温度、氧气流量比例R=O2/(O2+Ar)对Zn和O原子发射光谱的影响,并结合ZnO薄膜的结构和物理性能,探讨了沉积温度在ZnO薄膜生长中的作用.研究结果显示:当R≥0.75%时, Zn的溅射产额随R的增加基本呈线性下降规律.当R介于10%—50%时,氧含量的变化相对平缓,有利于ZnO薄膜生长的稳定性控制.Zn原子发射光谱强度随沉积温度的变化可以分为三个阶段.当沉积温度低于250℃时,发射光谱强
关键词:
ZnO
薄膜生长
反应磁控溅射
等离子体发射光谱 相似文献
4.
利用多靶磁控溅射技术制备了Au/SiO2纳米颗粒分散氧化物多层复合薄膜.研究了在保持Au单层颗粒膜沉积时间一定时薄膜厚度一定、变化SiO2的沉积时间及SiO2的沉积时间一定而改变薄膜厚度时,多层薄膜在薄膜厚度方向的微观结构对吸收光谱的影响.研究结果表明:具有纳米层状结构的Au/SiO2多层薄膜在560nm波长附近有明显的表面等离子共振吸收峰,吸收峰的强度随Au颗粒的浓度增加而增强,在Au颗粒浓度相同的情况下,复合薄膜光学吸收强度随薄膜厚度的增加而增强.但当金属颗粒的浓度增加到一定程度时,金属颗粒相互接触,没有观察到纳米层状结构,薄膜不显示共振吸收峰特征.用修正后的M-G(Maxwell-Garnett)理论对吸收光谱进行了模拟,得到了与实验一致的结果. 相似文献
5.
6.
用磁控溅射方法制各纯Fe薄膜,并硫化合成FeS2.采用同步辐射X射线近边吸收谱与X射线光电子能谱研究了薄膜的电子结构.结果表明,合成的FeS2薄膜,在费米能级附近,有较强的Fe 3d态密度存在,同时,在价带谱中2-10eV处有强度较大的S 3p态密度存在;Fe的3d轨道在八面体配位场作用下分别为t2g和eg轨道,实验中由Fe的吸收谱计算得到两分裂能级之差为2.1eV;实验测得FeS2价带结构中导带宽度约为2.4eV,导带上方仍存在第二能隙,其宽度约为2.8eV. 相似文献
7.
8.
建立了一套用于产生瞬变物种的脉冲高压放电分子束装置,以N2气为例,对高压脉冲放电过程和整个荧光采集系统的工作效率进行了研究,从N2气的振动光谱中得到其激发态的振动温度为2257K。 相似文献
9.
脉冲管制冷机是近年来空间微型机械式制冷机研究的前沿课题,作者通过精确的实验测量和分析,首次发现了双向进气型脉中管制冷机存在直流分量,该直流分量是脉冲管制冷机的一种损失,并指出多种旁能流程可以减小直汉损失,提高脉冲和制冷机的制冷性能。 相似文献
10.
磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系. 相似文献