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1.
分析了不同的填充强化剂(后处理A液)、不同的后处理B液基料、后处理B液中水性环氧乳液的掺量及后处理液浸泡时间对石膏基打印器件耐水性、抗压强度、尺寸偏差、表面微观结构的影响.结果表明:经纳米硅超硬固化剂处理后的打印器件抗压强度大幅提高,纳米硅超硬固化剂最适宜作为后处理A液;水性聚氨酯乳液PU-202B最适宜作为后处理B液的基料;后处理B液中加入水性环氧乳液,处理后打印器件的抗压强度增加、吸水率降低,但水性环氧乳液含量增加到一定程度后会出现尺寸偏差;后处理A、B液最佳浸泡时间分别为130 s和35 s;先浸泡后处理A液、后浸泡后处理B液的打印器件具有抗压强度高、吸水率小、表面较光滑、不脱粉等优良性能.  相似文献   
2.
深部电刺激丘脑底核与ATP敏感性钾通道   总被引:1,自引:0,他引:1  
深部电刺激术(Deep brain stimulation,DBS)能抑制过度活动的神经核团,缓解帕金森氏病(Parkinson’s disease,PD)的运动症状和减少药物用量。深部电刺激术可能也刺激基底神经核团释放某些未知的具有神经保护作用的生物活性物质,干预神经元退变过程并延缓疾病发展,从而减缓或阻止帕金森氏病的  相似文献   
3.
以系统论为理论依据,在计算机上进行试验和分析,研究了输入件的设计要求和方法。研究表明:后处理输入件要设计后处理硬件类型、图形件(*.ps)的输出模式和镜像输出条件等总则,要确定输出内容包括网格划分和性能计算结果两个大的方面,网格划分的输出可以按平面图和三维图两种类型输出。性能等高线图和矢量图可以按正平面图和斜平面图的类型输出,网格图和性能图均按仿真计算的曲轴转角(时间)输出。  相似文献   
4.
5.
This paper reports that the growth of RuOx(110) thin layer growth on Ru(0001) has been investigated by means of scanning tunnelling microscope (STM). The STM images showed a domain structure with three rotational domains of RuOx(110) rotated by an angle of 120℃. The as-grown RuOx(110) thin layer is expanded from the bulk-truncated RuOx(110) due to the large mismatch between RuOx(110) and the Ru(0001) substrate. The results also indicate that growth of RuOx(110) thin layer on the Ru(0001) substrate by oxidation tends first to formation of the Ru-O (oxygen) chains in the [001] direction of RuOx(110).  相似文献   
6.
“更相减损术”是我国古代数学中求二整数最大公因数的方法 .古典名著《九章算术》卷一在谈到分数分子分母约去公因数有“置分母子之数 ,以少减多 ,更相减损求其等也 .以等数约之 .”这里的“等数”就是所说分母分子的最大公因数 .所谓“更相减损求其等”就是置两个整数 ,以少减多 ,反复相减 ,直到二数相等就得到它们的最大公因数 .例如 ,求 91 ,49的最大公因数(91 ,49) .我们有(91 ,49) =(91 -49,49) =(4 2 ,49)=(4 2 ,7) =…… =(7,7) =7刘徽说 :“其所以相减者 ,皆等数之重叠 .”数91 ,49都是等数 7的重叠 .对于初学者来说 ,“更相减损求…  相似文献   
7.
8.
前言:日前杭州市农业局组团以美国的加利福尼亚州和德克萨斯州为重点,先后访问考察了加州大学戴维斯分校(UC Davis)和德州农工大学(Texas A&M University)、Stanislaus和Wharton县农业推广机构、RATTO BROS蔬菜种植与加工场、Viansa 葡萄种植园和葡萄酒加工厂、Burchell 果树良种繁育场、H.E.B食品配送中心等。听取了有关教授和专家关子蔬菜水果的生活和育种、采后处理与加工、市场与消费以及农业经济与政府决策、农业技术推广等方面的专题讲座。  相似文献   
9.
60岁以上重症急性胆管炎59例,术后24例出现低血钾,发生率为40.7%,本文就其发生的原因及预后的影响进行探讨,该病随着低血钾的发生,可作为老年重症急性胆管炎预后转归的重要指标.  相似文献   
10.
采用时域有限差分方法(FDTD)进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟;同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。  相似文献   
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