空分设备的清洗

文章介绍了空分设备及其性能特点，空分设备的工艺流程，空分设备表面清洁度及其检查方法，指出通过清洗降低空分设备表面油脂的残留量对保障空分设备性能的正常发挥有着重要意义，过去通常采用四氯化碳作清洗剂，文章研究了在淘汰ODS新形势下可采用的清洗剂和清洗技术，介绍了在这方面取得的成果和经验。     

ISO 14644-1洁净室空气洁净度等级标准的特点

对洁净室空气洁净度等级标准的国际标准ISO14644—1与美国标准FS209E的主要不同点进行列举并对IS014644—1在等级依据公式及表达格式方面的特点进行对比分析。     

医药工业洁净室悬浮粒子测试方法的分析

本文通过对比我国《药品生产质量管理规范》GMP(1998)中《医药工业洁净室(区)悬浮粒子的测试方法》GB／T16292-1996与新的洁净室及相关受控环境国际标准ISO14644—1／2中相关规定的差异,分析了我国医药工业洁净室测试中有关方法的利弊,并结合我国国情,提出我国GMP应对洁净室测试方法进行进一步修订的建议。     

等离子体处理对ITO表面化学镀铜的影响

由于常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工 序.通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层.实验结果表明,处理距离越 短对减小水接触角、提高清洁度和附着力越有利;而等离子体功率和处理时间对基板表面状态的影响不是单调的.因此通...     

技术标准的前瞻性与实践的互动性讨论

从我国技术标准国际化、产业调整升级和创新发展的推手角度,浅谈技术标准的前瞻性以及实践过程中的互动性,同时说明建立我国洁净室及相关受控环境标准体系的紧迫性。     

酸性电镀铜用磷铜阳极探讨

介绍了评价磷铜阳极质量的几个关键因素,即原材料纯度、晶粒结构、磷含量和表面清洁,以及它们对电镀产品质量的影响。     

表面残留颗粒对晶圆键合影响机制的研究

着重分析了晶圆表面残留颗粒对晶圆键合的影响,并从表面残留颗粒统计意义的角度,得到了一个晶圆键合的判定标准.为了改善键合界面出现的气泡问题,一种基于点压技术的新型点压键合法被应用到整片键合中,并和传统的金金热压键合法进行了比较.实验表明,采用点压键合法能够有效抑制晶圆表面残留颗粒对晶圆键合的影响.     

高功率激光放大器片腔洁净度实验研究

 在氙灯放电泵浦过程中,放大器片腔内材料在高强度氙灯光辐照下,存在显著的热解过程,产生大量的微米级悬浮粒子。在两种实验条件下对粒子数进行了测量：一是放大器氙灯泵浦结束之后悬浮粒子的自然消散过程;二是氙灯泵浦结束之后利用大气流量的超纯氮气冲洗片腔之后的粒子数测量。研究结果表明,正常情况下,氙灯泵浦结束后片腔洁净度达到了10~50万级气溶胶的水平(在粒子直径Φ 0.5 μm的水平上)。利用大气流量的超纯N₂气冲洗片腔能够在短时间内显著地提高片腔的洁净度。     

取代表面涂（镀）覆而改进的有机可焊性保护剂

该文综述了新一代OSP的优点和应用效果。     

TFT-LCD生产设备洁净度提升研究

洁净室设备内环境是产品最近的环境,设备内洁净度直接影响产品品质,随着现在科学技术的高速发展,对生产设备内部环境洁净度要求越来越高.通过薄膜晶体管液晶显示模块(TFT-LCD)生产线设备内环境洁净度的提升,得到了非常重要的一线数据,积累了很多经验.粒子(Particle)是洁净间产品品质最大的敌人,设备内环境就是产品的环境,设备内环境洁净度的改善和控制是非常重要和必要的.