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1.
王瑾  刘红侠  栾苏珍 《微电子学》2007,37(6):838-841
针对纳米器件中出现的量子化效应,考虑了薄层全耗尽SOI MOSFET沟道反型层电子的量子化,研究了反型层量子化效应对阈值电压的影响。结果表明,沟道反型层的量子化效应导致阈值电压增大,推导并给出了纳米尺度全耗尽SOI MOSFET的阈值电压修正模型。  相似文献   
2.
全耗尽SOI MOSFET的阈电压的解析模型   总被引:3,自引:0,他引:3  
付军  罗台秦 《电子学报》1996,24(5):48-52
本文在近似求解全耗尽SOIMOSFET所满足的二维泊松方程的基础上,建立了阈电压的解析模型。  相似文献   
3.
近年来,随着光电器件的广泛应用,微机械光开关(MEMS)成为核心光交换器件的主流。在研发过程中,其器件检测手段成为人们所关注的话题。文章介绍了一种新颖的测量平台,通过高幅值利用单片机控制脉冲频率的方法来选择器件。与当前同类方法相比,具有精度高、可靠性强、成本低、易操作等特点,具有广阔的使用前景。  相似文献   
4.
本文简述了中子辐照对IGBT特性的影响,给出了器件在中子辐射注量高达10(13)n/cm2时的实验结果。实现发现,随着中子注量的增加,开关时间缩短,阀值电压漂移。对于所研究的注量范围,所观察的效应是由于IGBT少子寿命减少造成的,而不是由于有效掺杂浓度变化所致。  相似文献   
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