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Ga N有较 Ga As更宽的禁带、更高的击穿场强、更高的电子饱和速度和更高的热导率 ,Al Ga N/Ga N异质结构不仅具有较 Ga As PHEMT中Al Ga As/In Ga As异质结构更大的导带偏移 ,而且在异质界面附近有很强的自发极化和压电极化 ,极化电场在电子势阱中形成高密度的二维电子气 ,这种二维电子气可以由不掺杂势垒层中的电子转移来产生。理论上 Al Ga N/Ga N HEMT单位毫米栅宽输出功率可达到几十瓦 ,而且其宽禁带特点决定它可以承受更高的工作结温 ,作为新一代的微波功率器件 ,Al Ga N/Ga N HEMT将成为微波大功率器件发展的方向。采… 相似文献
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根据已经发表的实验数据,针对镓铝铟磷发光材料的提出了一组经验公式及相应的曲线,作为GaAlInP可见光材料设计的依据或参考。 相似文献
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在确定的开管扩镓装置中,以氢气做为镓源Ga2O3的反应和输运气体,凭借准确的控制扩散条件,镓在SiO2/Si系统中扩散,可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Si和SiO2中扩散行为,分析讨论了镓在裸Si系和SiO2/Si系扩散所产生的杂质Rs效应,及其氧化膜质量和厚度对Rs的影响。 相似文献
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