电致发光色纯性增强的硅基有机微腔

报道了硅基有机微腔的电致发光（EL）.该微腔由上半透明金属膜、中心有源多层膜和多孔硅分布Bragg反射镜（PS DBR）组成.半透明金属膜由Ag（２０nm）构成，充当发光器件的负电极和微腔的上反射镜.有源多层膜由Al (1 nm) / LiF(05 nm) /Alq3/Alq3:DCJTB/NPB/CuPc/ITO/SiO2组成，其中的Al/LiF为电子注入层，ITO为正电极，SiO2为使正、负电极电隔离的介质层.该PS DBR是采用设备简单、成本低廉且非常省时的电化学腐蚀法用单晶Si来制备的；该PS 关键词： 电化学腐蚀 电致发光 窄峰发射 硅基有机微腔     

可寻址网络故障一例

某化工厂两幢住宅楼用户反映无法正常收视。维修人员前去处理 ,测试馈电器输出 6 0Ｖ电压正常 ,输入支干线电缆末端电压和信号电平均正常 ,但接上馈电放大器却不能正常工作 ,维修人员换了一台新放大器还是如此 ,检查放大器所带可寻址集线箱也完好。技术人员对此现象进行分析 :可寻址集线箱是通过馈电器输送 6 0Ｖ直流电工作的 ,中间有馈电放大器和过流分支器等无源器件 ,经检查这些器件全部正常 ,馈电器输出的 6 0Ｖ电压正常 ,放大器和可寻址集线箱也没问题 ,馈电电缆末端信号电平和电压等指标空载时测试均正常 ,但该电缆一带负载 ,馈电放大…     

采用电化学自终止腐蚀制造硅传声器

简述了单昌硅压阻式传声器的结构参数设计和工艺制造技术，采用ｐｎ结自终止电化学腐蚀技术得薄且平整性较好的振膜。测试结果表明：１ｋＨｚ时灵敏度为－５８．４ｄＢ／Ｐａ。     

直埋光缆的腐蚀及抗腐蚀防护

直埋光缆的使用寿命取决于光缆生成时的抗腐蚀环境，本文说明了光缆受腐蚀的自然环境，介绍了对付光缆外抗塑料层破损的维护方法和金属护套抗电腐蚀的方法。     

SWITRIM��������ƺ�ʹ�øſ�

研制出了用于计算氚投料量在FEB聚变堆各个子系统中的分布及其随时间变化的数值模拟程序包SWITRIM。通过近5年的使用，表明其运行良好、计算结果可靠。用SWITRIM数值模拟研究了聚变堆起动过程中的“氚坑深度和氚坑时间”新现象。简单介绍了SWITRIM程序包的组成和用户使用说明以及最新的运用等。     

玻璃的冲击损伤

冲蚀过程是一个与颗粒反复冲击物体表面而移除物质相关的表面现象．本文研究了玻璃的冲蚀坑的几何尺寸和体积，给出了冲蚀移除物质如何依赖于颗粒流动速度、颗粒尺寸和冲击角的理论关系．通过理论与实验结果相比较，定义了一定冲蚀坑尺度的有效域．     

Ni扩散LiNbO3脊形波导MZ调制器的制作技术

最近几年，宽带光通信系统已成为开发热点，并大大促进了高速集成光学器件的研究与发展。LiNbO3电光调制器由于有带宽较宽、可抑制啁啾性能、波长独立性等优点，是宽带光通信系统必不可少的器件。目前LiNbO3调制器已取得很大进展，但由于LiNbO3具有高介电常数，使带宽受     

硅的等离子体深腐蚀

湿法化学腐蚀已被广泛地应用于敏感器件传感结构的微细加工中.近年来,在VLSI中等离子体干法腐蚀已成为获得细线条图形的可行技术.然而,干法腐蚀工艺无论是等离子体腐蚀或反应离子腐蚀,相对于湿法腐蚀来说都是比较慢的.在需要深腐蚀的应用中(如电子束光刻的对准符号刻蚀,电路隔离槽或敏感器件的微细结构腐蚀)当前都着力提高腐蚀速率.在传感器的开发中,主要问题之一是封装,为简化到处于测量环境的传感器的外部连接,希望通过传感器背面进行连接.在化学传感器中,背面连接最为有利.因为假如所有的引线都