Effect of Low Energy Electron Exposure on Ion Scattering Spectroscopy

The effect of low energy electron (LEE) exposure on ISS, including on the sputter peak and scatter peak as well as on ion neutralization, has been investigated for different samples. Some new results are discussed.     

等离子淋浴在离子注入工艺中的应用

阐述了等离子淋浴技术的工作原理和特点。介绍了在离子注入工艺中采用等离子淋浴来中和晶片表面的电荷积累,可将晶片表面的电荷积累电压控制在安全范围;应用等离子淋浴实现低能离子束的电中性传输,可提高低能离子束的传输效率和束通道的最大传输束流。最后介绍了国外在这两方面的研究应用情况。     

强流相对论性电子束在低压中性气体中传输的研究

本文给出了强流相对论性电子束(IREB)在低压中性气体中传输特性的理论和实验研究结果。660kV,40kA,脉宽100ns的电子束注入充有H_2,N_2的漂移管,稳定的传输气压范围在(0.7-6.7)×10~2Pa间,传输效率可达80％以上;极低气压时(P≈13.3Pa)由于空间电荷效应,束电子被虚阴极阻滞并径向发散,不能有效传输;而较高气压时,束电子除受自身电磁场作用及库仑碰撞散射外,等离子体不稳定性使束流传输效率明显降低。用蒙特·卡洛法及数值解析法对电荷中和、电流中和过程进行了模拟计算并解释了实验结果。