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和照 《广播电视网络技术》2010,(7):90-95
对于一个个人影视工作室来说,在保证节目质量的前提下,省钱是硬道理,采购设备一定要追求高性价比。和照工作室从2003年创办至今七年时间,所有设备从无到有.采购过程不知道走过多少弯路。特别是一些附件,买来不好用的、根本用不上的、重复购买的真是不计其数。欣喜的是我们制片人很理解.并不断支持我买更好的设备,让我有机会使用很多不同的附件设备,并潜心研究其功能使其发挥到最佳效果,真所谓:小配件,大用途。接下来我们会在杂志上以连载的方式不断给大家介绍我的一些附件使用经验。 相似文献
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文中提出了一种基于响应面法的电永磁吸盘充退磁吸力及材料使用量的多目标优化方法。该方法选取电永磁吸盘结构的部分关键参数作为设计变量建立响应面模型,并采用目标驱动优化设计产生候选点,最后选出符合预期目标的设计变量参数。通过该方法优化后的电永磁吸盘,在充磁工作状态下的吸附力提升了35.7%,退磁卸载状态下的残余吸力减小了92%,工作性能得到了显著提升,同时优化了材料的使用量,提高了产品的费效比。 相似文献
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干法刻蚀工艺中,晶圆温度会直接影响刻蚀速率、刻蚀均匀性及刻蚀形貌,从而对最终的器件性能产生影响。对干法刻蚀过程中会对晶圆温度产生影响的若干因素进行了研究,并通过实验确认了不同因素对晶圆温度的影响趋势及范围,为工程应用提供一定参考。通过实验,确认了静电吸盘的夹持电压及氦压、射频源功率、下电极温度及晶圆本身都会对刻蚀过程中的晶圆温度产生一定影响,其中静电吸盘的夹持电压及氦压对晶圆温度影响最大,晶圆翘曲、下射频源功率次之,上射频源功率、下电极冷却温度对晶圆温度影响基本相当,影响程度最小。 相似文献
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简要介绍了静电吸盘的工作原理,理论分析了六相静电吸盘的工作模式,对静电吸盘进行了结构设计和制作工艺研究,并对静电吸盘的工艺性能尤其是静电吸盘在不同压力的氮气冷却性能进行了研究.实验结果表明.静电吸持电压的频率为30 Hz时最佳,这时电压一般为0.5 kV-1 kv,所需电源的功率较小. 相似文献
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CMP加工中的真空吸盘区域压力控制技术 总被引:1,自引:1,他引:0
目前半导体制造技术已经进入0.13μm时代,化学机械抛光(CMP)已经成为IC制造中不可缺少的技术。根据下一代IC对大尺寸硅片(≥300mm)面型精度和表面完整性的要求,分析了CMP(化学机械抛光)加工中大尺寸硅片夹持的关键之一—区域压力控制技术穴ZoneBackPressureControl雪,介绍了采用区域压力控制技术的必要性和理论基础,以及国内外研究现状和最新进展,并指出了该技术存在的问题与发展趋势。 相似文献