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1.
针对VO2薄膜在微测辐射热计上的应用,采用射频反应溅射法,在室温下制备氧化钒薄膜;研究了氧分压对薄膜沉积速率、电学性质及成分的影响.通过调节氧分压,先获得成分接近VO2的非晶化薄膜,再在400℃空气中氧化退火,便可制得高电阻温度系数,低电阻率的VO2薄膜,电阻温度系数约为-4%/℃,薄膜方块电阻为R□为100—300kΩ;薄膜在室温下沉积,400℃下退火的制备方法与微机电加工(micro electromechanic
关键词:
二氧化钒
电阻温度系数
氧分压
射频反应溅射法 相似文献
2.
3.
WU Jian-Jun GAO Zi-You SUN Hui-Jun 《理论物理通讯》2006,46(7)
In this paper, based on the utility preferential attachment, we propose a new unified model to generate different network topologies such as scale-free, small-world and random networks. Moreover, a new network structure named super scale network is found, which has monopoly characteristic in our simulation experiments. Finally, the characteristics ofthis new network are given. 相似文献
4.
5.
Heterogeneity is typically the result of space variability of soil parameters at different scales. Soil anisotropy may be defined as the spatial persistence in some direction only, across coarse-grid elements, of heterogeneous structures with different characteristic lengths in different directions. One can account for the effect of these structures by upscaling soil properties. Analyzing flow in a strongly anisotropic structured soil at different scales evidences how transverse dispersion reduces to a subscale process, leading to mixing within the conductive structures. 相似文献
6.
磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜 总被引:1,自引:0,他引:1
采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系. 相似文献
7.
采用交替沉积磁控溅射工艺制备了超薄多层的FeCoB SiO2 磁性纳米颗粒膜 .利用x射线衍射仪、扫描探针显微镜、透射电子显微镜分析了薄膜的微结构和形貌特征 .采用振动样品磁强计、四探针法、微波矢量分析仪及谐振腔法测量薄膜试样的磁电性能和微波复磁导率 .重点对SiO2 介质相含量、薄膜微结构对电磁性能产生重要影响的机理做了分析和探讨 .结果表明 :这类FeCoB SiO2 磁性纳米颗粒膜具有良好的软磁性能和高频电磁性能 ,2GHz时的磁导率 μ′高于 70 ,可以应用于高频微磁器件或微波吸收材料的设计 相似文献
8.
Formation of p-type ZnO film on InP substrate by phosphor doping 总被引:3,自引:0,他引:3
Kyu-Hyun Bang Deuk-Kyu Hwang Min-Chul Park Young-Don Ko Ilgu Yun Jae-Min Myoung 《Applied Surface Science》2003,210(3-4):177-182
ZnO thin film was initially deposited on InP substrate by radio frequency (rf) magnetron sputtering and the diffusion process was performed using the closed ampoule technique where Zn3P2 was used as the dopant source. To verify the junction formation of ZnO thin films, the electrical properties were measured, and the effects of Zn3P2 diffusion on ZnO thin films were investigated. It is observed that the electrical property of the film is changed from n-type to p-type by dopant diffusion effect. Based on the results, it is confirmed that ZnO thin films can be a potential candidate for ultraviolet (UV) optical devices. 相似文献
10.