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专业分类

物理学

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出版年

2007年

1篇

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超细低水峰抗弯损光纤的设计及制作 总被引：1，自引：0，他引：1

张立永吴兴坤卢卫民李群星黄晓鹏《光子学报》2007,36(9):1648-1651

采用全合成预制棒制造法（VAD＋OVD）和改进的G.652.D光纤拉制法制造光纤.研究了工艺中光纤芯径的大小、第一包层的厚度、芯包折射率差、芯包比等参量与光纤弯曲性能的关系,并据此制作了几种超细低水峰抗弯损光纤.该光纤的裸光纤直径约80 μm,涂覆后成品光纤直径约140 μm,当弯曲半径不小于7.5 mm时,能够在1 260～1 625 nm整个波段内满足DWMD的传输要求. 相似文献