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1.
Transparent conducting ZnO:AI thin films with good adhesion and Iow resistivity have been prepared on organic substrates and Coming 7059 glass substrates by r.f. magnetron-sputtering technique at Iow substrate temperature (25-210℃). Structural and photoelectric properties of the deposited films are investigated. The deposited films are polycrystalline with hexagonal structure and a preferred orientation with the c-axis perpendicular to the substrate. Only the (002) peak is observed.High quality films with resistivity as Iow as 1.0 x 10- 3Ω@ cm and 8.4 x 10- 4Ω@ cm, the average transmittance over 74% and 85% in the wavelength range of the visible spectrum have been obtained on different substrates. 相似文献
2.
This paper reports that the m-plane GaN layer is grown on (200)-plane LiAlO2 substrate by metal-organic chemical wpour deposition (MOCVD) method. Tetragonal-shaped crystallites appear at the smooth surface. Raman measurement illuminates the compressive stress in the layer which is released with increasing the layer's thickness. The high transmittance (80%), sharp band edge and excitonic absorption peak show that the GaN layer has good optical quality. The donor acceptor pair emission peak located at -3.41 eV with full-width at half maximum of 120 meV and no yellow peaks in the photoluminescence spectra partially show that no Li incorporated into GaN layer from the LiAlO2 substrate. 相似文献
3.
4.
Results of experimental investigations of the volt-brightness characteristics, frequency dependences of brightness, and the
directional radiation pattern of electroluminescent MSDM, MSCM, and MSDCM emitters, where M stands for the first transparent
and second nontransparent electrodes, S is a semiconductor, D is a thin-film dielectric, and C is a silicone-based composite
liquid dielectric with a powdered segnetoelectric filler, developed on conventional “smooth” and rough glass substrates are
presented. It is shown that electroluminescent structures on rough surfaces have a brightness approximately two times higher
than that of similar structures developed on a “smooth” substrate.
Ul’yanovsk State University, 42, L. Tolstoi St., Ul’yanovsk, 432700, Russia. Translated from Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii,
Vol. 64, No. 4, pp. 507–512, July–August, 1997. 相似文献
5.
Si衬底上ZnSe外延膜的低压MOCVD生长 总被引:2,自引:2,他引:0
以硒化氢(H2Se)和二甲基锌为源材料,生长温度是300℃时,用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)系统在Si(111)衬底上外延生长了ZnSe薄膜。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜的能量色散(EDS)以及光致发光(PL)实验验证ZnSe外延膜的质量,在X射线衍射谱中只有一个强的ZnSe(111)面衍射峰,这说明外延膜是(111)取向的单晶薄膜,在能量色散谱中除了Si,Zn和Se原子外,没有观测到其他原子,说明ZnSe外延膜中杂质含量较少。ZnSe外延膜中Zn/Se原子比接近1,有较好的化学配比。在ZnSe外延膜的77K光致发光谱中没有观测到与深中心发射相关的发光峰,表明ZnSe外延膜的晶格缺陷密度较小。77K时的近带边发射峰447nm在室温时移至465nm附近。 相似文献
6.
就如何在4英寸热氧化硅衬底上沉积高质量的磁性隧道结纳米多层薄膜材料和如何利用光刻方法微加工制备均匀性较好的磁性隧道结方面做了初步研究,并对磁性隧 道结的磁电性质及其工作特性进行了初步测量和讨论.利用现有的光刻设备和工艺条 件在4英寸热氧化硅衬底上直接制备出的磁性隧道结,其结电阻与面积的积 矢的绝对误差在10% 以内,隧穿磁电阻的绝对误差在7% 以内,样品的磁性隧道结性质具有较好的均匀性和一致性,可以满足研制磁随机存储器存储单元演示器件的基本要求.
关键词:
磁性隧道结
隧穿磁电阻
磁随机存储器
4英寸热氧化硅衬底 相似文献
7.
Applied Biochemistry and Biotechnology - 相似文献
8.
9.
Yuxin Leng Lihuang Lin Wenyao Wang Yunhua Jiang Bin Tang Zhizhan Xu 《Optics & Laser Technology》2003,35(6):425-429
A birefringent crystal quartz plate of known thickness has been used as a spectral filter for spectral shaping in a Ti:sapphire regenerative amplifier. The spectral profile of the amplified pulse ejected from the regenerative amplifier was observed while adjusting the birefringent crystal plate in the cavity. By altering the gain spectrum, the bandwidth of the regeneratively amplified pulse was increased from 18 to 35 nm by using a 0.34-mm thick birefringent plate. The output pulse spectrum from the regenerative amplifier neared the bandwidth of the seed pulse. As a comparison, we used a coated filter outside the regenerative amplifier cavity, and the bandwidth of the regeneratively amplified pulse was stretched to 28 nm. When the bandwidth was stretched to 35 nm, the pulse was compressed to 35 fs. 相似文献
10.
利用电泳技术在不锈钢和铁基底上制备MgB2带材 总被引:2,自引:0,他引:2
本文首次报道了利用电泳技术在铁和不锈钢基底上制备MgB2超导带材.电阻测量表明,沉积在铁和不锈钢基底上MgB2带材的超导零电阻转变温度分别为37.5K和31K,超导转变宽度分别为0.3K和1K.磁测量表明,(5K,OT)时不锈钢基底上带材的临界电流密度为6×105(A/cm2).X射线衍射谱和扫描电子显微镜图象表明样品结晶良好,晶粒生长致密.本工艺制备MgB2带材时不受系统真空度的限制,生长迅速,成本低廉,并且可以根据不同的需要任意选择基底的形状和大小. 相似文献