Synthesis and Properties of Aryloxy—terminated Polydimethylsiloxanes

Aryloxy-terminated polydimethylsiloxanes (AOS) were synthesized by the telomerization of hexamethylcyclotrisiloxane(D3) with phenols.The structures of AOS were characterized by UV,IR,^2HNMR and elemental analysis,The effects of the reaction conditions and the mole ratios of the reactants on the molecular weight of the polymer were discussed.AOS′s structural influence on bactericidal action,flocculation and hydrolysis was studied.     

塑料脱模剂一组分的光谱分析

柱层析色谱分离性能优良的新型塑料脱模剂，纯化后得一主要未知组分。用元素分析、红外光谱、核磁共振氢谱研究其结构特征，对其盐酸酸化前后红外光谱吸收峰及核磁带进行了归属分析并确定结构。结果表明，该组分为一表面活性剂N，N-二羟乙基十二烷基胺。这为新型脱模剂的产品开发提供了依据。     

镁合金用水溶性脱模剂 MK-300、MK-400的研制及其性能评价

研制开发了镁合金压铸用水溶性脱模剂MK-300、MK-400,可在高倍稀释的条件下使用,实验及实用结果显示MK-300、MK-400的脱模性、润滑性、高温附着性、模具保温性、模具残留物、铸件喷涂适应性、废液处理等均取得了满意的效果。     

有机脱模剂中多环芳烃的高效液相色谱测定

建立了有机硅类和金属皂类脱模剂中多环芳烃的高效液相色谱测定方法。方法所用色谱柱为多聚C18(LC-PAH)柱,流动相为乙腈/水,采用梯度淋洗方式,开始时为体积分数40%乙腈,28min后变为82%乙腈,48min后变成100%乙腈,保持8min。方法的线性范围为0.10~200mg/L,线性相关系数为0.9993~1.0000,平均回收率分别为68.55%~101.2%(有机硅类)和75.29%~99.89%(金属皂类),精密度RSD分别为1.6%~8.1%(有机硅类)和1.8%~6.8%(金属皂类),检出限(S/N=3)分别为0.05~0.10mg/L(有机硅类)和0.05~0.20mg/L(金属皂类)。该方法可以满足有机硅类和金属皂类脱模剂中多环芳烃的检测要求。     

N,N-二羟乙基十二烷基胺的合成及性能

以二乙醇胺和溴代十二烷为原料,在无水乙醇介质中合成了脱模剂用新型原材料N,N-二羟乙基十二烷基胺.通过正交试验法对合成工艺进行了优化,研究了各种因素对合成产率的影响,确定了在无水乙醇介质中合成该化合物的最佳工艺条件;表征了合成产物的结构,并测定了其理化性能和表面化学性能.结果表明:在无水乙醇介质中合成N,N-二羟乙基十二烷基胺简单易行,产率为85.37%.合成产物在水溶液中的临界胶束浓度为2.92×10-3mol/L,所对应的液体表面张力为20.875 mN/m.以合成产物为原材料制备的固化薄膜的表面能为14.57 mN/m,小于聚氨酯塑料的表面能29 mN/m,是聚氨酯塑料和弹性体脱模剂的理想原材料.     

自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究

软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层Na...     

自支撑Zr膜制备及软X射线透过性能研究

软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层NaCl做为脱膜剂,直流磁控溅射沉积Zr膜,脱膜后的到自支撑Zr膜.为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部,在Zr膜两面各直流磁控溅射沉积一层10 nm厚的C或Si膜作为保护膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si复合膜,测试结果显示C或Si膜的引入对于自支撑Zr膜光学性能基本无影响.