光压效应及其应用

 一、光压效应光的本质是电磁波,电磁波不仅具有能量,而且具有动量。设光子速度为c,频率为v,波长为λ,则光子的能量和动量分别为:E=hv.     

激光除锈过程的实时监测技术研究

对激光除锈过程中的实时监测技术进行了实验研究,结果表明:除锈过程中产生的声波强度会随着表面清洁度的变化而发生明显的变化,声波信号包含了除锈过程中的大量信息,可作为激光除锈实时监测的基本信号.     

塑料光学元件的清洗、镀膜和胶合

各种塑料光学元件在光学系统中的应用越来越广泛。作为光学元件,必然涉及清洗、镀膜和胶合等工艺技术问题。本文就塑料光学元件的这三个技术作一介绍。     

用等离子体治疗牙病

等离子体清洗经常使用在材料处理和半导体工业上，虽然等离子体也可以快速地消灭细菌，但由于它们都处于高温状态，所以一直无法应用到生物医学领域．三年前，荷兰Eindhoven大学的一些物理学家发展了一种可在室温下工作的“等离子体针”。     

HL-2A装置真空系统

现代核聚变实验装置要求的真空系统必须实现以下主要功能：（1）装置真空室的零部件及总体抽空和检漏；（2）真空室的烘烤除气（H2O）；（3）辉光放电清洗和面对等离子体部件的锻炼及原位处理；（4）边缘粒子的抽运与控制；（5）等离子体放电实验运行。     

微波法快速清洗冷原子吸收测汞法所用玻璃仪器

冷原子吸收测汞法因所用玻璃仪器对汞的吸附力很强,利用传统方法处理后,空白值吸光度多在0.07以上,甚至高达1.05,无法继续使用.本文将高锰酸钾-硝酸-硫酸煮沸法与微波加热技术结合起来处理玻璃仪器,加速汞从玻璃表面的洗脱.试验表明,该法快速简便,洗涤效果好,结果令人满意.     

硅片清洗及最新发展

对目前硅片湿式化学清洗方法中常用的化学清洗溶液的清洗机理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细论述.介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术, 指出了硅片清洗工艺的发展趋势.     

钛材化学清洗工艺综述

介绍了钛材碱洗脱脂除油和酸洗除去氧化皮的原理和方法,重点阐述了钛材碱洗除油和酸洗除去氧化皮的工艺条件、工艺流程和设备.     

HL-2M初始等离子体放电阶段的辉光放电清洗系统电极的设计与分析

针对HL-2M装置初始等离子体放电阶段所需的直流辉光放电清洗系统的电极进行了设计.对辉光放电清洗系统在不同工况下的系统负载进行了分析和拟定,并确定了电极结构设计分析标准.根据系统电极的结构特点并结合系统负载规范与分析标准,依据不同的失效模式对电极进行了失效分析.分析结果表明,此针对初始等离子体放电的电极设计能可靠安全运...     

UltiMate 3000 DGLC双三元液相色谱的串联色谱技术特点

当样品使用梯度洗脱时,每次分析结束之后,常需较长时间重新平衡或清洗色谱柱。在此过程中,进样器、柱温箱和检测器则处于闲置状态,这无疑是一种资源浪费。若能将此清洗和平衡过程与分析下一个样品同时进行,则可充分利用资源并可提高分析效率。赛默飞Ulti Mate 3000 DGLC双三