双奇核136La的集体带结构

通过重离子核反应与在束γ谱的实验技术, 对A=130缺中子核区的双奇核¹³⁶La的高自旋态进行了研究, 所用核反应为¹³⁰Te(¹¹B,5n). 实验结果扩展了¹³⁶La的能级纲图, 包括3个集体转动带, 最高自旋态达20h. 对于\uppi h_{11/2}\otimes \upnu h_{11/2}$~带, 观测到了旋称反转与集体回弯现象. 通过系统学比较, 对旋称反转特性进行了讨论. 由推转壳模型的计算指出, 此集体回弯是由一对中子的角动量顺排引起的. 另外两个集体带为具有~$\gamma\approx -60^\circ$~的扁椭形变带, 其可能的组态为: $\uppi h_{11/2}\otimes \upnu g_{7/2}h_{11/2}^2$~与~$\uppi g_{7/2}\otimes\upnu g_{7/2}^2 d_{5/2} h_{11/2}^2$.     

热致型胆甾酯液晶的相变研究

使用偏光显微镜观察胆甾烯壬酸酯液晶的相变，发现在不同的温度变化条件下液晶相变过程是不同的．本文讨论了其变化规律．     

空气隙间隔格兰型棱镜偏光器透射光强扰动的温度效应

线偏振光正入射的情况下，空气隙间隔格兰型棱镜的透射光强随旋转角出现周期性增强的扰 动.扰动的出现影响了透射偏振光的质量.研究表明，透射光强对入射角有着敏感的依赖关系 .实验中空气隙间隔格兰型棱镜的振动引起入射角在棱镜的结构角附近作微小变化，从而导 致了透射光强的扰动.讨论了温度的变化对扰动大小的影响.给出了减小扰动的有效方法. 关键词： 偏光棱镜 热光效应 干涉 扰动     

椭偏法测厚及折射率的计算机解算

WJZ型多功能激光椭圆偏振仪是在JJY型分光计上附加激光椭偏装置而组成。兼有分光计和椭偏仪的功能,可用于测量不同基底上介质薄膜的厚度和折射率;除作为高校中级物理实验外,亦可用于材料表面光学参数的分析研究。但是,与原椭偏装置相配用的椭偏仪数据表,只能适用于K_q基底上生长的氧化锆薄膜标准试样,这就实际上限制了椭偏仪的使用范围;另一方面,即使对上述标准试样测量,所获数据往往与数据表提供的数值偏离甚大,直接影响实验效果。经过多次实际试验,本文分析了三相椭偏方程解的特性,讨论了不同条件下椭偏法测厚及折射率的计算机解算。     

ZnSe/SiO2复合薄膜光学常数与荧光光谱的研究

采用溶胶-凝胶工艺与原位生长技术，制备了ZnSe/SiO₂复合薄膜.X射线衍射分 析表明薄膜中ZnSe晶体呈立方闪锌矿结构.X射线荧光分析结果显示薄膜中Zn与Se摩尔比为1 ∶1.01—1∶1.19.利用场发射扫描电子显微镜观察了复合薄膜的表面形貌，结果表明复合薄 膜表面既存在尺寸约为400nm的ZnSe晶粒，也存在尺寸小于100nm的ZnSe晶粒.利用椭偏仪测 量了薄膜椭偏角Ψ，Δ与波长λ的关系，采用Maxwell-Garnett有效介质理论对薄膜的光学 常数、厚度、气孔率、ZnS 关键词： 2复合薄膜')" href="#">ZnSe/SiO₂复合薄膜 光学性质 椭偏光度法 荧光光谱     

模拟退火法在吸收薄膜的椭偏反演算法中的应用

将一种广泛用于求解复杂系统优化问题的技术－－模拟退火法－－用来求解椭偏反演方程。首先假设一个薄膜模型，计算出其相应的椭偏参数（Ψ，Δ）的值，在这个计算值的基础上加入不同标准偏差的高斯噪声；然后将加入噪声后的值（Ψm,Δm)作为模拟的测量数据，采用模拟退火算法进行求解，验证得知这种方法求得的薄膜参数很接近于假设的薄膜模型参数的真值，与其他文献的报道结果一致，而且在扩大搜寻范围时，仍然可以得到准确解，从而证明了该方法的可行性以及有效性。     

酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性

通过真空镀法在单晶硅片上制备了酞菁钴薄膜，在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了ＣｏＰｃ薄膜的椭偏光谱并分析了其电子结构。     

椭偏法测膜厚的直接计算方法

改进了椭偏法测薄膜折射率和膜厚的迭代计算方法，由测量得到的起偏角A和检偏角P直接算出薄膜折射率和膜厚．     

热致液晶共聚酯／Nylon－1010共混物的研究

利用偏光显微镜（ＰＬＭ），差示扫描量热计及广角Ｘ－射线衍射等手段研究了热致液晶共聚酯／Ｎｙｌｏｎ－１０１０共混体系．发现当热致液晶共聚酯（ＨＴＨ１０）含量达到３０％时共混物微结构与纯ＨＴＨ１０相似．尼龙－１０１０的结晶度先是随ＨＴＨ１０含量增加而增加，随后又随之下降，但其结晶温度却随ＨＴＨ１０加入而单调下降，共混物的熔融热焓△Ｈｍ在ＨＴＨ１０含量为３０％时与计算值有较大的偏差，广角Ｘ－射线衍射结果表明，此时共混物结构发生了较为明显的变化，两组份之间在此时存在一定的相互作用．     

高聚物球晶偏光织态研究中的厚度性消光与补偿机理

以两维聚环氧乙烷（ＰＥＯ）球晶为对象，探讨了偏光显微法的消光机理，尤其是其中的厚度性消光机理，并对于补偿片的作用原理作了细致的理论分析，运用上述手段对ＰＥＯ球晶的形态进行了研究。