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在复合材料层合板静压痕接触问题中,由于层合板接触区域的纤维走向发生了变化,导致沿厚度方向的弹性模量产生变化并随着凹坑深度的增加而增大。本文建立压头压入后的力学分析模型,得到了与凹坑深度相关的沿厚度方向的等效弹性模量;将等效弹性模量代入目前被广泛接受的修正Hertz接触理论,建立了新的接触力与凹坑深度的关系式。通过与静压痕试验中接触力和凹坑深度的关系进行比较,结果表明该接触关系式能较好地描述接触力和凹坑深度的关系。与文献修正理论相比,在压痕较小时,本文的修正结果较好。 相似文献
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以模具工业45^#钢摩擦学设计及性能要求为基础,分析了激光毛化模具钢表面形貌的形成机理及其关键的影响因素。采用灯泵浦Nd:YAG脉冲激光器在试样表面进行激光毛化工艺试验,获得了合理的激光毛化参数范围:激光峰值功率0.8~1.6kW,离焦量-1.4~-0.4mm、+0.4~4-1.4mm,辅助气体压力〉0.2MPa,脉宽1.8ms。采用功率增益和氧气保护,可加工出预先设定的微火山口状毛化形貌。微凹坑形貌的成功获得对于提高拉伸模具的摩擦磨损性能,进一步掌握激光毛化参数与材料的作用规律,提供了有效的数据参考。 相似文献
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本文采用数值方法,研究了来流马赫数为0.7时,凹坑排布方式对高负荷扩压叶栅NACA0065-K48的影响。凹坑布置在10%~32%轴向弦长,排布方式分为平行排列和交错排列两种。通过对比3种叶栅的性能参数以及流场结构发现:凹坑叶栅在负冲角时可以降低流动损失并提升扩压能力,这是由于凹坑扰动使得附面层的湍动能水平提高,进而减弱了分离泡、角区分离以及二次流动;凹坑叶栅的叶型损失增加;平行排布方式具有更宽的工作范围,在-3°冲角时可以使得总压损失减小14.26%。 相似文献
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具有表面凹坑的半无限体三维应力集中系数有限元研究 总被引:1,自引:0,他引:1
利用ANSYS有限元软件对半无限体表面球形和半椭球形凹坑的三维应力集中系数进行了计算,该方法简单易行,省时省力;并将所得数据与试验结果作了对比,两者吻合较为一致,说明利用该软件分析三维应力集中问题有效可行。研究结果表明:应力集中系数随泊松比μ、曲率r及凹坑与结构相对尺寸的增加而变大;对于椭球凹坑,在深度一定时,增加凹坑与表面相交面积,可以减小应力集中系数,削去部分的形状,以与凹坑相切,且在载荷方向上有长轴的椭圆或圆弧组合为宜。 相似文献
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为了研究硬质合金表面激光微织构对其表面润湿性的影响,利用光纤激光不同功率(3,5,7,9,10W)及不同加工次数(1,2,3,4,5)加工微凹坑,采用VHX1000c超景深三维显微镜、光学显微镜分析微凹坑形貌,利用CAM 200光学接触角仪测量表面微织构(微凹坑直径、深度和织构密度)与润湿性之间的关系。结果表明:随着激光功率的增大,微凹坑深度增加,直径变化不明显;硬质合金表面的亲水性能随着微凹坑深度的增加而减小;随着微凹坑直径的增大,亲水性增强;随着微织构密度的增加,亲水性出现极值。 相似文献
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用数值计算方法研究有密度凹坑的等离子体对P偏振入射光的吸收,结果表明,如果密度凹坑及其周围密度分布取得适当参数,吸收峰值可以达到近100%,即远超过线性密度等离子体共振吸收的峰值50%;吸收曲线随入射角变化呈现双峰值结构.密度凹坑就象个共振谐振腔,从腔内的透射光与第一个反射面的反射光干涉相消,使总反射光变弱,由此导致了大的吸收率. 相似文献
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We prepare a well-defined C84 monolayer on the surface of Ag (111) and study the geometric structure by scanning tunneling microscopy (STM). The C84 molecules form a nearly close-packed incommensurate R30° lattice. The lattice is long-distance ordered with numerous local disorders. The monolayer exhibits complex bright/dim contrast; the largest height difference between the molecules can be greater than 0.4 nm. Annealing the monolayer at 380 ℃ can desorb part of the molecules, but more than sixty percent molecules stay on the Ag (111) surface even after the sample has been annealed at 650 ℃. Our analyses reveal that the 7-atom pits form beneath many molecules. Some other molecules sit at the 1-atom pits. Ag adatoms (those removed substrate atoms, accompanying the pit formation) play a very important role in this system. The adatoms can either stabilize or destabilize the monolayer, depending on the distribution manner of the adatoms at the interface. The distribution manner is determined by the co-play of the following factors: the dimension of the interstitial regions of the C84 overlayer, the number of the adatoms, and the long-distance migration of part adatoms. 相似文献