首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   215篇
  免费   38篇
  国内免费   29篇
化学   19篇
晶体学   5篇
力学   41篇
综合类   5篇
数学   23篇
物理学   189篇
  2024年   2篇
  2023年   8篇
  2022年   14篇
  2021年   6篇
  2020年   7篇
  2019年   6篇
  2018年   1篇
  2017年   10篇
  2016年   8篇
  2015年   15篇
  2014年   18篇
  2013年   13篇
  2012年   17篇
  2011年   14篇
  2010年   9篇
  2009年   13篇
  2008年   16篇
  2007年   11篇
  2006年   6篇
  2005年   18篇
  2004年   15篇
  2003年   7篇
  2002年   9篇
  2001年   6篇
  2000年   2篇
  1998年   5篇
  1997年   2篇
  1996年   5篇
  1995年   2篇
  1994年   3篇
  1993年   2篇
  1992年   3篇
  1991年   2篇
  1990年   3篇
  1989年   1篇
  1988年   1篇
  1987年   1篇
  1980年   1篇
排序方式: 共有282条查询结果,搜索用时 187 毫秒
1.
为了适应教学改革的需要,本人就计算机在物理教学中的应用进行了深入的研究和尝试,开发了“平抛运动演示实验”及“飞机投掷演示实验”等软件,并成功地用到了教学中.  相似文献   
2.
3.
陈幼民 《物理实验》2004,24(10):20-20
  相似文献   
4.
关于非球面制造技术的看法   总被引:1,自引:1,他引:0  
列举了现代诸高科技领域对非球面光学系统的需求实例,如短波光学,空间光学,红外光学,微电子技术等。然后比较讨论了刀口阴影法与数字干涉检验的优缺点。在非球面修磨方法方面,首先肯定了计算机辅助加工是发展的方向,指出其主要优点在于“失误”造成的反复率大大降低。最后对非球面技术提出了总的看法,并对检测方法和修磨方法提出了几个研究课题。  相似文献   
5.
全日制教育硕士(学科教学·化学)研究生培养是一个具有挑战性的、全新的研究课题。从"目标定位""课程优化"和"实践提升"3个方面对化学教育硕士培养进行探讨。在"目标定位"上应培养化学教育硕士具有较强的化学课堂教学能力和教研能力,在"课程优化"上,应优化更具功能化和结构化的课程体系,在"实践提升"上应搭建基于科学态磨课的全类型、全环节的实践平台。  相似文献   
6.
中学物理教学中对“运动的独立性”与“力的独立作用原理”一直存在模糊认识,本文从物理学科结构的视角,深入分析了其实质内涵.同时,探讨了与之紧密相关的“平抛运动”教学的逻辑问题.最后指出了理清这些关系对教学的启示.  相似文献   
7.
为实现高精度中小口径非球面的加工,介绍了一种非球面修抛技术。基于Preston假设,将抛光过程描述成一个线性方程,计算得到材料的去除量与抛光时间、抛光压力和零件转速之间的函数关系。设计了整体修抛法和环带修抛法两种方法,在数控抛光的基础上,对口径为Ф117mm的凹抛物面和口径为Ф17mm凸双曲面进行修抛,修抛后非球面的面形精度PV值为0.184μm,RMS均小于0.032μm,达到了工程化应用要求,实现了中小口径非球面的高精度加工。  相似文献   
8.
回顾恢复高考以后三次有关涉及平抛运动实验的试题,无不留下深刻的影响.因此,认真反思这些试题所反映出的问题不仅必要,而且有益。  相似文献   
9.
《中国光学》2015,(1):162-165
1.增强现实显示器大千世界,光电子装置发展的最突出形式之一是头戴眼镜式显示器。然而,谷歌眼镜自面市以来一直都没有很成功的发展,为什么呢?嗯,是因为奇怪的外观;它只有一个单一的、侧边小屏幕;而用户使用时常常会发生斗眼。北卡罗来纳大学教堂山分校(UNC)和Nvidia研究中心的研究人员开发出一个眼镜显示器的设计,可以解决上述所有问题:增强现实眼镜是透明的,可以是3D立体的,至少看起  相似文献   
10.
孔帅  吴敏  聂凡  曾冬梅 《人工晶体学报》2022,51(11):1878-1883
采用磁控溅射法在ITO玻璃上制备了CdZnTe薄膜,探究机械磨抛对CdZnTe薄膜阻变特性的影响。通过对XRD图谱、Raman光谱、AFM显微照片等实验结果分析阐明了机械磨抛影响CdZnTe薄膜阻变特性的物理机制。研究结果表明,磁控溅射制备的薄膜为闪锌矿结构,F43m空间群。机械磨抛提高了CdZnTe薄膜的结晶质量;CdZnTe薄膜粗糙度(Ra)由磨抛前的3.42 nm下降至磨抛后的1.73 nm;磨抛后CdZnTe薄膜透过率和162 cm-1处的类CdTe声子峰振动峰增强;CdZnTe薄膜的阻变开关比由磨抛前的1.2增加到磨抛后的4.9。机械磨抛提高CdZnTe薄膜质量及阻变特性的原因可能是CdZnTe薄膜在磨抛过程中发生了再结晶。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号