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1.
Optical Properties of ZnFe2O4—SiO2 Granular Films Prepared by Radio—Frequency Magnetron Sputtering 下载免费PDF全文
We report on the optical properties of ZnFe2O4-SiO2 granular films prepared on quartz substrates by the radio-frequency magnetron sputtering method.Post-annealing was performed at different temperatures under flow oxygen atmosphere.The morphology and Structures of ZnFe2O4 nanoparticles were characterized by x-ray different line types in the optical absorption curves of ZnFe2O4-SiO2 granular films.The critical transition of line types occurs when ZnFe2O4 changes from amorphous to crystalline,and the transition temperature increases with the increasing content of ZnFe2O4.There is an obvious blueshift of the optical absorption edge of the granular films with the decreasing annealing temperature. 相似文献
2.
3.
p型未掺杂富锌ZnO薄膜的形成和性能研究 总被引:1,自引:1,他引:0
以高纯ZnO为靶材,氩气为溅射气体,利用射频磁控溅射技术在石英衬底上生长出纤锌矿结构的富锌ZnO薄膜.薄膜沿(002)择优取向生长,厚约为1.2μm,呈现电绝缘特性.将溅射的ZnO薄膜在10-3Pa,510~1 000 K的温度范围等温退火1 h,室温Hall测量结果表明ZnO薄膜的导电性能经历了由绝缘—n型—p型—n型半导体的变化.XPS测试表明ZnO薄膜的Zn/O离子比随退火温度的升高而降低,但一直是富锌ZnO,说明未掺杂的富锌ZnO也可以形成p型导电.p型未掺杂富锌ZnO薄膜的形成可归因于VZn受主浓度可以克服VO和Zni本征施主的补偿效应. 相似文献
4.
用射频磁控溅射结合传统退火的方法制备LiCo0.8M0.2O2 (M=Ni,Zr)阴极薄膜.X射线衍射、拉曼光谱、扫描电子显微镜等手段表征了不同掺杂的LiCo0.8M0.2O2薄膜.结果显示,700℃退火的LiCo0.8M0.2O2薄膜具有类似α-NaFeO2的层状结构.通过对不同掺杂锂钴氧阴极的全固态薄膜锂电池Li/LiPON/LiCo0.8M0.2O2的电化学性能研究表明,电化学活性元素Ni的掺杂使全固态电池具有更大的放电容量(56μAh/cm2μm),而非电化学活性元素Zr的掺杂使全固态电池具有更好的循环稳定性. 相似文献
5.
计算机模拟仿真射频磁控溅射实验制备薄膜及离于电池电极,研究了在特定实验条件下薄膜的生长过程,并分析了影响薄膜生长的部分因素。 相似文献
6.
为了防止铀的腐蚀,采用在铀表面磁控溅射镀铝,但使用中发现铝镀层内产生了较大的应力,影响镀层结合强度及使用性能。通常认为,薄膜内的应力有热应力和生长应力两种。文中通过改变沉积温度、镀层厚度以及镀层力学性能分数,研究它们对镀层热应力分布的影响,从而为改善铀表面铝镀层内热应力分布提供理论依据。 相似文献
7.
后退火温度对溅射沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜结构和性能的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
在具有Ti缓冲层的Pt(111)底电极上,用射频溅射工艺在较低的衬底温度(370℃)和纯Ar气氛中沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜,沉积过程中基片架作15°摇摆以提高膜厚的均匀性。然后将样品在大气中进行5min快速热退火处理,退火温度550-680℃。用XRD、SEM分析薄膜的微结构,RT66A标准铁电测试系统测量样品的铁电和介电性能。结果表明,所沉积的Pt为(111)取向,仅当后退火温度高于580℃,沉积在Pt(111)上的PZT薄膜才能形成钙钛矿结构的铁电相,退火温度在580-600℃时结晶为(110)择优取向,退火温度高于600℃时结晶为(111)择优取向。PZT薄膜的极化强度随退火温度的升高而增加,但退火温度超过650℃时漏电流急剧上升,因此退火处理的温度对PZT薄膜的结构和性能有决定性的影响。 相似文献
8.
9.
10.
Al/AlN多层膜的摩擦磨损性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
采用柱状靶磁控溅射系统制备Al/AlN纳米多层膜,采用纳米压痕仪测量Al/AlN纳米多层膜的纳米硬度,在UMT-2M型摩擦磨损试验机上评价其摩擦磨损性能.结果表明:当AlN层较厚时,薄膜在很短时间内被磨穿;调节Al/AlN层厚比为2.9/1.1时,薄膜的摩擦磨损性能明显提高;当保持Al/AlN层厚比为2.9/1.1、变化多层膜的调制周期时,薄膜的摩擦系数较低,但硬度较低的薄膜由于承载能力不够,不能够保持优良的摩擦磨损性能. 相似文献