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1.
Since tungsten was chose as the divertor tiles of 1TER, the investigation of tungsten and its coating as plasma facing material (PFM) have been paid more attentions by fusion scientists all over the world. Recent years, tungsten coatings have been successfully  相似文献   
2.
为了防止铀的腐蚀,采用在铀表面磁控溅射镀铝,但使用中发现铝镀层内产生了较大的应力,影响镀层结合强度及使用性能。通常认为,薄膜内的应力有热应力和生长应力两种。文中通过改变沉积温度、镀层厚度以及镀层力学性能分数,研究它们对镀层热应力分布的影响,从而为改善铀表面铝镀层内热应力分布提供理论依据。  相似文献   
3.
This paper reports the use of a colloidal Pd^0 catalysis system to metallize the surface of precipitators separated from coal fly-ash, and metals such as Cu, Ni etc. are deposited on the precipitators surface. Alternatively, according to the characteristic surface of cenospheres, an Ag coating catalysis system is adopted to first deposit Ag on the cenospheres surface, followed, if necessary, by the deposition of other metals such as Cu, Ni, etc. on the Ag coating to produce monolayer and multilayer metal-coated cenospheres. The surface characteristics and the morphologies of the metal coatings are examined in detail with scanning electron microscopy (SEM), energy dispersive spectroscopy (EDX) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) techniques. It can be shown that the quality of metal coatings derived from the Aa coatina catalysis system, is better than that of the colloidal Pd^0 catalysis system.  相似文献   
4.
对新型的代铬刷镀层Ni-Fe-W-P-S进行了耐腐蚀性能机理的分析研究。用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、扫描隧道显微镜(STM)、X射线衍射及电子能谱(XPS)等的分析表明,基体组织为非品结构是代铬刷镀层优异耐腐蚀性的主要原因.  相似文献   
5.
镀液中Ce^3+离子对锡镀层结构缺陷和可焊性的影响   总被引:1,自引:0,他引:1  
应用荧光分析法、X光电子能谱法(XPS)及正电子湮没寿命谱法(PALS)等研究了从含硫酸铈添加剂的酸性光亮锡镀液获得的锡镀层结构缺陷与可焊性的关系。结果表明,电镀时Ce与Sn不发生共沉积,Ce~(3+)的主要作用是阻化Sn~(2+)的水解和氧化使镀液稳定,因而使锡镀层纯度提高、结构致密、表层氧含量减少,有利于提高镀层的可焊性。当Ce~(3+)浓度控制在3.5g/L左右时,可使镀层结构缺陷较少,可焊性较佳,说明结构缺陷是影响锡镀层可焊性的直接原因。  相似文献   
6.
非晶态镍磷—镍钨磷双层组合镀层的耐蚀性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文对比研究了镍磷镀层、镍钨磷镀层及非晶态镍磷和镍钨磷双层组合镀层的耐蚀性能,分别进行了各种镀层的浸渍腐蚀实验,镀层的X射线衍射图象、镀层的扫描电镜图象、以及在工厂实际的腐蚀环境里进行的腐蚀实验。实验结果表明镍磷及镍钨磷双层组合镀层的耐 性优于镍磷镀层、镍钨磷镀层的耐蚀性。  相似文献   
7.
化学镀广泛应用于非金属的电镀、电铸前的施加导电层。化学镀沉积层质量与其在零件上的附着力有着密切的关系 ,重视对化学镀沉积层内应力的研究 ,开发一个低温、低内应力的化学镀镍工艺 ,对于化学镀沉积层的推广应用有着十分重要的意义。本文采用正交实验方法对低温、低内应力化学镀镍工艺进行了系统研究 ,开发出了一个低温、低内应力的化学镀镍工艺。在实验过程中发现沉积层内应力同其在零件上的结合力具有密切关系并对其进行了初步探讨。1 实验方法1 1 正交实验根据探索性实验结果分析 ,影响化学镀镍层内应力σ和沉积层速率r的主要因…  相似文献   
8.
Fe26Cr1Mo不锈钢在900℃氧化时,生成的氧化层在冷却过程中大量剥落,经表面共电沉积NiLa2O3复合镀层后,抗热循环能力明显提高。  相似文献   
9.
电沉积条件对锌镀层织构的影响   总被引:14,自引:1,他引:14  
许书楷  杨防祖 《电化学》1995,1(4):408-414
采用XRD方法研究添加剂,络合剂,以及电流密度对锌酸盐镀锌层的织构和晶粒尺寸的影响,结果表明,添加剂AA-1的存在有利于(101)晶面取向;而DIE则使镀层转变为110择优;两种添加剂同时存在下,可在一定的电流密度范围内获得高择优取向的锌镀层,而当又有络合剂TEA和EDTA同时存在时,则可在更宽广的电流密度范围内制得日 粒细密、表面光亮、择优系数TC(110)在985以上的高择优取向锌沉积层。  相似文献   
10.
A new activation method has been developed for electroless copper plating on silicon wafer based on palladium chemisorption on SAMs of APTS without SnCl2 sensitization and roughening condition.A closely packed electroless copper film with strong adhesion is successfully formed by AFM observation.XPS study indicates that palladium chemisorption occurred via palladium chloride bonding to the pendant amino group of the SAMs.  相似文献   
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