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简单回顾了Einstein 1905年揭示的第一种波粒二象性(光的波粒二象性)与de Broglie 1923年揭示的第二种波粒二象性(实物粒子的波粒二象性)及其实验验证过程,指出了这两种波粒二象性的本质差别,分析了波粒二象性的逻辑体系并指出:只要把Gan1995年揭示的“经典(电磁)场在结构上的颗粒性”当作“第三种波粒二象性”就能构成“三种波粒二象性”的完美组合,利用“波粒二象性的相变假说”还可以把这“三种波粒二象性”和谐地统一起来。借助于经典条件下光的经典理论与量子理论究竟哪一个更为精确的实验判决(见《光散射学报》)2006年第1期第75.79页《Lorentz-Compton佯谬与一个双赢判决性散射实验设计》)还可以完成“第三种波粒二象性”和“波粒二象性的相变假说”的实验验证。 相似文献
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利用机械合金化制备纳米Zr-V粉末,对制备过程的材料进行物相分析和热分析试验。初始粉末Zr(150μm)和V(150μm)元素粉末(纯度99.15%)按原子比1:2或1:1进行混合后在氩气气氛中放入SimoloyerCMol—2球磨仓中,按几种不同的试验条件进行球磨。同时在997K和1047K下热处理40min和1h,并对热处理前后的粉末进行了物相和TG-DSC实验分析。 相似文献
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A novel super-hydrophobic stearic acid (STA) film with a water contact angle of 166o was prepared by chemical adsorption on aluminum wafer coated with polyethyleneimine (PEI) film. The micro-tribological behavior
of the super-hydrophobic STA monolayer was compared with that of the polished and PEI-coated Al surfaces. The effect of relative
humidity on the adhesion and friction was investigated as well. It was found that the STA monolayer showed decreased friction,
while the adhesive force was greatly decreased by increasing the surface roughness of the Al wafer to reduce the contact area
between the atomic force microscope (AFM) tip and the sample surface to be tested. Thus the friction and adhesion of the Al
wafer was effectively decreased by generating the STA monolayer, which indicated that it could be feasible and rational to
prepare a surface with good adhesion resistance and lubricity by properly controlling the surface morphology and the chemical
composition. Both the adhesion and friction decreased as the relative humidity was lowered from 65% to 10%, though the decrease
extent became insignificant for the STA monolayer.
The project supported by the National Natural Science Foundation of China (50375151, 50323007, 10225209) and the Chinese Academy
of Sciences (KJCX-SW-L2) 相似文献