电解用三维电极体系的研究与发展

综述三维电极电解反应器的理论与应用。综合目前的发展状况，提出在这一领域我国应优先开展的研究方向。     

New ESR-Electrochemical Cell Designs for Coaxial Microwave Cavity

本文报道了一种适用于同轴微波腔的新型ＥＳＲ—电化学池的设计。工作电极的长度可调节，部分屏蔽微波辐射的功能由上下两个屏蔽套承担。除了传统的螺线管，工作电极还可由打孔的金属筒、金属网、甚至复合材料制成。对电极可根据需要置于共振腔的外面或里面。总之，新设计灵活实用，适合更多的研究场合。本文列举了一些应用实例。     

电化工艺中的自由边界问题

本文考虑了二个电化工艺中的自由边界问题:电加工问题和电镀问题,简要地介绍了这二个问题的数学模型和已经取得的理论成果。     

镍氧化物纳米管可提高锂离子电池的电化学性能

澳大利亚伍伦贡大学（University of Wollongong）的几位研究者通过模板程序合成了单一取向、排列整齐的镍氧化物（NiO）纳米管束，并用于锂离子电池，从而提高了其电化学性能。     

电致发光色纯性增强的硅基有机微腔

报道了硅基有机微腔的电致发光（EL）.该微腔由上半透明金属膜、中心有源多层膜和多孔硅分布Bragg反射镜（PS DBR）组成.半透明金属膜由Ag（２０nm）构成，充当发光器件的负电极和微腔的上反射镜.有源多层膜由Al (1 nm) / LiF(05 nm) /Alq3/Alq3:DCJTB/NPB/CuPc/ITO/SiO2组成，其中的Al/LiF为电子注入层，ITO为正电极，SiO2为使正、负电极电隔离的介质层.该PS DBR是采用设备简单、成本低廉且非常省时的电化学腐蚀法用单晶Si来制备的；该PS 关键词： 电化学腐蚀 电致发光 窄峰发射 硅基有机微腔     

Microwave Synthesis, Characterization and DNA-binding Properties of a New Cobalt（ Ⅱ ） Complex with 2,6-Bis（benzimidazol-2-yl）pyridine

A new cobalt(Ⅱ) complex with tridentate ligand 2, 6-bis (benzimidazol-2-yl)pyridine has been synthesized by microwave irradiation method and characterized by elemental analysis,electrochemical and spectral methods. The binding of the complex with calf thymus DNA has also been investigated by absorption and fluorescence spectra.     

A Kind of Electrode Enhanced the Electrochemiluminescence

Electrochemiluminescence (ECL), like other chemiluminescence technique, offers high signal-to-noise ratio. Furthermore, it has the advantage over other chemiluminescence techniques of being initiated by a voltage potential. Thus, it provides a better-controlled luminescence. This technique has been used in measuring many kinds of organic and inorganic matters, and analyzing many kinds of antigen, antibody and hapten, such as carcinoembryonic antigen and alpha-fetoprotein, etc1-6. The ele…     

微全分析系统检测方法的研究进展

综述了不同类型的检测方法在微全分析系统的应用，并简述了各类型的检测方法的优缺点。引用文献92篇。     

微模塑法制备PMMA/SiO2二氧化硅杂化材料微结构

以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 .