烷基硫酸盐表面张力的量子化学研究

用AMl量子化学计算法优化了十三烷基硫酸根阴离子和——CH3在不同取代位的十二烷基硫酸根阴离子的几何构型，得到最优构型时最高占据分子轨道能级EHOMO、最低空轨道能级ELUMO、电子能量Eele和偶极矩μ等数据．将这些电子结构数据分别与表面张力相拟合，得到很好的相关性。文中讨论了——CH3在不同位置取代对表面张力的影响。     

Indriect Determination of CTMAB with Sodium Chloride and Ammonium Thiocyanate by Floatation and Separation of Zine

A new method for indirect determination of cetyl-trimethyl ammonium bromide (CTMAB) with NaCl and NH4SCH by floatation and separation of zinc has been studied.The study shows that Zn(Ⅱ） can associate with NH4SCN and CTMAB to form insoluble ternary ion-association complex,and the precipitate can float on the surface of the liquid phase.A good linear relationship is observed between the floatation yield(E%) of Zn(Ⅱ） and the amount of CTMAB.On the ground,CTMAB Can be indirectly determined by determining E% of Zn(Ⅱ）.The results were satisfactory.     

世界级新型表面活性剂—烷基糖苷

世界级新型表面活性剂──烷基糖苷随着人们对环境质量要求的不断提高，一种新型的化工产品除了要有良好的性能和经济效益外，还须满足环境相容性的要求。近年来开发的烷基糖苷（ＡｌｋｙｌＰｏｌｙｇｌｙｃｏｓｉｄｅ，缩写ＡＰＧ）以无毒，对皮肤刺激小或无，生物降解迅...     

一类新的表面活性剂——长链烷基三苯基鏻——Ⅵ.稳态荧光猝灭法测定十二烷基三苯基溴化鏻胶束的平均簇集数

研究了十二烷基三苯基溴化鏻(C_(12)PBr)胶束中N,N-二甲基苯胺(DMA)和二苯甲酮(DPK)对芘的荧光猝灭,发现DMA的猝灭行为不符合Stern-Volmer动态猝灭和Turro静态猝灭模型;DPK的猝灭行为不符合Stern-Volmer猝灭模型,但遵从Turro静态猝灭模型。根据DPK的静态猝灭性质测得C_(12)PBr胶束的平均簇集数为15士2,并相应地得到C_(12)PBr的临界胶束浓度为(1.77±0.09)×10~(-3)mol/L,后者与文献值一致。     

双－全氟烷基氮氧自由基从取代苯甲醛的攫氢反应──用EPR方法建立取代基自旋离域参数σ的新尝试

Ｒ_ＦＮ（Ｏ　）Ｒ_Ｆ和Ｒ_ＦＮＯ的Ｆ１１３溶液在室温下与一系列的对位取代苯甲醛反应，得到稳定的对位取代苯甲酰基全氟烷基氮氧自由基。由△ａ_Ｎ和△ａ_Ｆ~β的σ单参数相关以及△ａ_Ｎ与σ和σ　双参数相关表明：极性效应是影响氟烷基酰基氮氧自由基中氮原子自旋密度变化的主要因素，而自旋离域效应的影响是很小的。     

A Novel and Efficient Catalytic System for Aerobic Oxidative Coupling of 2-Naphthol Derivatives

The paper reported a novel and efficient aerobic oxidative coupling reaction of 2-naphthol derivatives catalyzed by CuCu (Ⅰ or Ⅱ)N-alkylimidazole complexes in excellent yields. The crystal structure of CuCu(Ⅱ)N-methylimidazole complex to be determined by X-Ray.     

铽－甲基吲哚乙酰丙酮三元配合物发光过程研究

测定和分析了ＲＥ．Ｌ１．Ｌ２（ＲＥ＝Ｔｂ（Ⅲ）、Ｇｄ（Ⅲ），Ｌ１＝３Ｍ（３甲基吲哚－１－乙酰基丙酮），Ｌ２＝ＴＰＰＯ、Ｐｈｅｎ、Ｄｉｐｙ）三元配合物的荧光光谱、磷光光谱、磷光寿命及变温荧光光谱等．讨论了Ｔｂ（Ⅲ）与配体之间的能级匹配和Ｌ１与Ｌ２的三重态之间传能的问题，说明了影响这些三元配合物荧光效率的主要因素及其发光过程．