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1.
塑料光学元件的清洗、镀膜和胶合 总被引:1,自引:0,他引:1
各种塑料光学元件在光学系统中的应用越来越广泛。作为光学元件,必然涉及清洗、镀膜和胶合等工艺技术问题。本文就塑料光学元件的这三个技术作一介绍。 相似文献
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3.
本文来自于作者的实践。介绍了加工方法及测量问题。重点叙述了加工中的一些关键,同时也提供了国内外在这方面的进展情况。 相似文献
4.
在当前激光核聚变实验中,中子集中在短时间内出现、且产额低。为适应这种特点,要求探测器的效率高,分辨时间短。利用闪烁中子探测器探测激光核聚变所产生的中子,能测定中子产额,记录中子能量,而且探测效率高,分辨时间短。缺点是易受γ射线、X射线的干扰。 相似文献
5.
双甲基丙烯酰氧苯基丙烷与苯乙烯共聚物的光学性能 总被引:2,自引:0,他引:2
标题共聚物的耐冲击性与丙烯酸酯均聚物相比有明显改善,但随着双烯单体含量的降低,共聚物的耐热性和表面硬度有所下降。丙烯酸酯含量为70%的共聚物的吸收紫外光能力最强(<370nm全吸收),含量为5%~10%的共聚物耐吸水性、耐酸耐碱性及耐冲击性最好。 相似文献
6.
The dynamic cure kinetics of thermosetting acetylene-terminated sulfone (ATS) and two blends prepared by the ATS and thermoplastic bisphenol A polysulfone (PSF), polyary-lethersulfone with cardo group (PES-C) were determinated by differential scanning calori-metry (DSC). The addition of polysulfone's resin increases the temperature of initial reaction and decreases the activation energy of cure reaction(E), pre-exponnential factor (LnA), and heat of cure reaction (AH). The temperature of reaction peak and final reaction and the reaction order(n) have been no effect. 相似文献
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8.
JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究 总被引:2,自引:0,他引:2
JD光学树脂表面刻蚀过程的XPS研究表明,引进树脂遥COH,C=O,C-SO3H,COOH等基因随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加,对其相对含量进行了计算,固化后的耐磨涂层具有SiO2结构,JD板材的最佳刻蚀条件为20℃,20min。 相似文献
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