a-C:F薄膜的热稳定性与光学带隙的关联

以CF4和C6H6的混合气体作为气源,在微波电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)装置中制备了氟化非晶碳薄膜(aC:F),并在N2气氛中作了退火处理以考察其热稳定性.通过傅里叶变换红外吸收谱和紫外可见光谱获得了薄膜中CC双键的相对含量和光学带隙,发现膜中CC键含量与光学带隙之间存在着密切的关联,在高微波功率下沉积的氟化非晶碳膜具有低的光学带隙和较好的热稳定性. 关键词： 氟化非晶碳膜 光学带隙 退火温度 热稳定性     

氟化类金刚石薄膜的拉曼和红外光谱结构研究

关键词：     

PPG侧链修饰聚酰亚胺的制备与表征

以可溶性聚酰亚胺为反应底物，经氯甲基化反应制得氯甲基化聚酰亚胺，再以氯甲基为活性反应中心，在聚酰亚胺侧链上接枝聚丙二醇单丁醚（PPG），从而得到PPG侧链修饰聚酰亚胺．所制备的产物结构经红外光谱和核磁共振氢谱得以证实．介电常数及吸附脱附测试结果表明：经过大体积侧链PPG修饰后，聚合物的介电常数明显降低，由3．147降低至2．976；比体积和比表面积增大．同时，所制得的聚合物具有优良的溶解性能，在微电子工业中易于加工应用．     

柱后切换程序升温气相以谱法测定六氟化硫气体中痕量一氧化十？…

本共作提供了用柱后切换和程序曙技术测定纯六氟化硫气体中痕量有毒杂质Ｓ２Ｆ１０Ｏ含量的气相色谱方法。用炎焰光度检测器检测，进样量为１ｍＬ时，Ｓ２Ｆ１０Ｏ最小检测浓度为５×１０＾７（ｍｏｌ／ｍｏｌ）。     

裂解色谱法研究PMR型聚酰亚胺前体的反应过程

用裂解气相色谱法研究ＰＭＲ型聚酰亚胺前体在反应中的化学变化过程，以裂解产物醇和环戊二烯的生成率表示酰胺化或酰亚胺化及交联的程度，结果表明，酰胺化或酰亚胺化在５０℃以下不发生，在１８０～２２０℃完成，降冰片烯端基在１５０℃以下不发生交联反应，在２８０℃，１０～１８小时可完成交联反应。     

四（五氟化苯基）卟啉氯化铁选择催化氧化超临界丙烷的反应机理

 以BHT为自由基捕捉剂，研究了四（五氟化苯基）卟啉氯化铁（Ⅲ）将超临界丙烷高选择性催化氧化为丙醇的反应机理．通过GC－MS分析发现，反应产物中有PBHT，故可认为在超临界丙烷氧化反应过程中有丙基自由基存在，初步推断反应涉及自由基机理．同时发现高浓度BHT抑制反应，低浓度BHT促进反应的现象，而以戊烷为底物时没有促进作用．这是由于BHT的位阻效应所致．并对BHT存在时超临界丙烷氧化反应机理进行了初步的推断．     

氟化γ-Al2O3表面酸性的NMR和FTIR表征

用红外光谱和核磁共振技术研究了氟化作用对γ-Al2O3的表面酸性（酸中心类型、强度及数量）的影响。吡啶和二甲基吡啶在氟化γ-Al2O3（F／γ-Al2O3）表面上吸－脱附的IR光谱和三甲基膦在F／γ-Al2O3表面上吸附的^31P MAS NMR结果表明，F／γ-Al2O3表面上既存在Lewis酸位又存在Broensted酸位。L酸的总量随氟含量的增加而减少。但其强度随之增加，且同时产生几种新的L酸位。B酸的数量和强度在样品含氟量为2％－3％间存在极大值。研究还表明，三甲基膦是一种测量F／γ-Al2O3表面酸性的灵敏的NMR探针分子，^31P MAS NMR和红外光谱的测试结果基本一致。同时，对氟化过程中酸位形成和变化机理进行了探讨。     

聚酰亚胺／聚N－乙烯吡咯烷酮分子复合物的合成和表征

由原位缩聚制备了刚性高分子聚酰亚胺（ＰＩ）和柔性基体聚Ｎ－乙烯吡咯烷附（ＰＶＰ）的分子复合物，并由实验证明了中间体聚酰胺酸（ＰＡ）和聚乙烯吡咯烷酮大分子之间存在的酸一碱相互作用．这种相互作用促进了混容性，使聚酰亚胺能以分子水平或接近分子水平分散在聚毗咯烷酮的基体之中．聚酰亚胺／聚Ｎ－乙烯吡咯烷团分子复合物的薄膜呈透明性，在整个组成范围内只有一个Ｔｇ，显示单相行为。当ＰＩ含量＜２０％时，ＳＥＭ相片呈现均相形貌，看不到ＰＩ微晶．广角Ｘ－ｒａｙ衍射图表明ＰＩ特征结晶峰消失，和无定形的ＰＶＰ完全混容．当ＰＩ含量＞４０％，ＳＥＭ显示有均匀分布的、棒状ＰＩ微晶存在．通过分子复合，即使ＰＩ含量为１０％，聚Ｎ－乙烯吡咯烷酮不再溶于乙醇，耐热性也有提高．