微波ECR等离子体溅射沉积T_t薄膜的结构研究

用电子回旋共振(ECR)等离子体溅射方法在室温基片上沉积出的T_i薄膜的结构是用X RD和TEM进行分析的。结果表明所沉积的T_i薄膜是平均粒径,晶粒尺寸分布很窄的稳定fcc结构。在实验过程中发现可以通过对工作参数的调整控制薄膜的晶粒尺寸。我们还讨论了ECR等离子体对薄膜结构和晶粒尺寸的影响。     

电子束辐照纳米TiO2多孔薄膜及在太阳电池中的应用

用电子束辐照了纳米TiO2多孔薄膜,并将其应用于染料敏化太阳电池,结果表明,电子束辐照可以提高太阳电池的短路电流,而开路电压基本不变.运用XRD分析了电子束辐照前后纳米TiO2多孔薄膜的晶型和晶粒度,发现电子束辐照不会造成纳米TiO2由锐钛矿相向金红石相转变,其晶粒度随电子束辐照注量的增加,存在着先增大、再减小,然后再增大的趋势.运用XPS分析了电子束辐照前后纳米TiO2多孔薄膜中Ti、O的化学状态,说明电子束辐照主要是使纳米TiO2多孔薄膜中氧充足状态的O1s逐渐减少,而不是通过Ti3+来改善太阳电池的性能.     

ECR-PECVD制备SiO2薄膜中衬底射频偏压的作用

采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积（ECR－PECVD）技术在单晶衬底上制备了SiO2薄膜,研究了射频偏压对薄膜特性的影响。通过X射线光电子能谱（XPS）、傅里叶变换红外线光谱（FTIR）、原子力显镜（AFM）和扫描隧道显微镜（STM）三维形貌图测量等手段,对成膜特性进行了分析。实验结果表明,通过改变射频偏压的参数来控制离子轰击能量,对ECR－PECVD成膜的内应力、溅射现象、微观结构和化学计量均有明显的影响。     

电子束辐照对氟掺杂二氧化锡导电玻璃的影响

运用XRD分析氟掺杂二氧化锡导电玻璃导电面SnO2的晶型,发现其属于四方晶系,晶粒尺寸为32.35nm。运用XPS分析氟掺杂二氧化锡导电玻璃导电面的元素组成主要是Sn和O,未能检测出F。进一步研究表明,电子束辐照前后Sn所处的化学状态相同(以Sn4+的形式存在),O以2种化学状态存在,分别对应氧充足和氧缺乏状态,且随着电子束辐照注量的增加,会有少量的氧失去而使氧充足状态的O1s逐渐减少。     

染料敏化纳米薄膜太阳电池电解质的优化

探讨了小面积染料敏化纳米薄膜太阳电池放大到大面积太阳电池组件时,各种电解质体系对电池性能的影响,综合优化了各种电解质的性能,同时与大面积电池(0.8cm×18cm)制作相结合,获得符合电池各种性能要求的最佳配比的电解质体系.光电转换效率可达到6.48%.     

纳米晶Ti薄膜的结构研究

用高密度、高电离度的电子迴旋共振等离子体溅射方法在室温基片上沉积出纳米晶Ti薄膜,基体为玻璃、NaCl单晶、纯Al等。对Ti薄膜的结构、形貌和成分进行X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子能谱(XPS)分析,表明所沉积的Ti薄膜是平均粒径d<10nm,晶粒大小均匀且具有比较稳定的fcc反常结构的纳米晶粒膜。我们还较系统地研究了各工作参数对Ti薄膜的晶体结构、晶粒尺寸、成膜速率以及对基体粘附力的影响,分析了成膜机理。 关键词：