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1.
探讨了有机硅改性聚氨酯海绵衬垫的制备工艺及其影响因素,通过有机硅改性,提高了 聚氨酯的耐热性。  相似文献   
2.
干法单向拉伸制备聚丙烯锂离子电池隔膜技术涉及《高分子物理》课程中高分子的链结构、凝聚态结构、分子运动和转变、粘弹性、屈服和断裂、流变性、表面和界面等章节的内容,非常适合作为教学案例.本文探讨如何将生产过程涉及的高分子物理知识点与课程教学相结合进行案例教学,重点分析每步工序对应的聚丙烯凝聚态结构和工艺参数变化对结构及性能...  相似文献   
3.
阻燃润滑剂MCA在聚酰胺中的应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了MCA与其它阻燃助剂对聚酰胺阻燃性能的影响,实验结果表明:应用MCA阻燃 聚酰胺效果明显,减少了环境污染,同时KNO3的加入使燃烧残留物成炭,取得了更好的阻燃效果。  相似文献   
4.
LIPN聚氨酯/聚丙烯酸酯引发体系的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
探讨了各种引发体系对LIPN聚氨酯(PU)/聚丙烯酸酯(PA)合成过程的稳定性、粒子形态及单体转化率的影响。实验表明采用油溶性引发剂AIBN可得到粒子均一,稳定性好且单体残留量很少的乳液;其粒子形态为“翻转”型核壳结构  相似文献   
5.
以4-硝基邻苯二甲酰亚胺为原料,经过五步反应,即氨解、脱水、取代、水解和脱水合成了一种双醚酐单体1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酸酐.研究了反应条件对产率的影响.用IR,1H-NMR表征了1,4-双(3,4-二羧基苯氧基)苯二酸酐及其他中间体化合物的结构.  相似文献   
6.
聚酰亚胺泡沫材料的制备与性能表征   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用3,3′,4,4′-二苯甲酮四甲酸二酐(酮酐,BTDA)和4,4′-二氨基二苯甲烷(MDA)为主要原料制备了一种聚酰亚胺泡沫材料.采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)、核磁共振氢谱(1H-NMR)、扫描电镜(SEM)、导热系数测定仪、热失重分析(TGA)、差式扫描量热分析(DSC)及驻波管分别对前聚体粉末化学结构、泡沫泡孔结构、热性能及声学性能进行了表征.研究结果表明前聚体粉末以聚酰胺酯和铵盐两种形式存在,所得泡沫泡孔均匀,并且随前聚体干燥温度升高,泡孔尺寸变小.泡沫的导热系数λ为7.62×10-3W/(m.K),失重5wt%的分解温度Td5为540℃,玻璃化转变温度Tg为306℃,表明其具有优良的隔热耐热性.并且由声学测试可知在0~2000Hz频率范围内,吸声系数可达0.79,传声损失可达19.4dB,具有低频吸声、隔声性.  相似文献   
7.
LIPN聚氨酯/聚丙烯酸酯粒子形态结构的研究   总被引:10,自引:0,他引:10  
采用二步法的技术制备了涂料用基料胶乳互穿网络聚合物聚氨酯 /聚丙烯酸酯( LIPN PU/PA) ,即首先合成种子聚氨酯水分散体 (网络 PU) ,然后合成 LIPN PU/PA。采用电子显微镜观察了 LIPN PU/PA的粒子形态结构以及引发剂种类和网络 PU与网络 PA的相对用量对粒子形态结构的影响。测试结果表明 ,LIPN PU/PA具有两相的“翻转”型核壳结构 ;采用油溶性引发剂偶氮二异丁腈 ( AIBN)可以得到具有“翻转”型核壳结构的粒子 ,但使用水溶性引发剂所得粒子几乎无“翻转”型核壳结构 ,而前两种引发剂的复合体系所得粒子形态则介于两者之间 ;随着网络 PU用量的减少 ,乳胶粒子越来越大 ,但其形态基本上具有“翻转”型核壳结构  相似文献   
8.
本文讨论了聚氨酯(PU)/聚丙烯酸酯(PAA)类胶乳互穿聚合物网络(LIPN)粒径与原料配比的关系。试验结果表明影响PU/PAALIPN的粒径的关键因素是亲水基团(COOH)的含量以及成盐率  相似文献   
9.
阻燃润滑剂三聚氰胺氰尿酸盐的合成   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文介绍了用三聚氰胺和氰尿酸合成阻燃润滑剂--三聚氰胺氰尿酸盐(MCA)的工艺。探讨了温度,pH值,反应时间对转化率的影响,并通过正交实验获得了最佳工艺条件;制得MCA的纯度为98.3%,且氰尿酸的转化率为99.6%。本文还对MCA加入聚丙烯中的阻燃效果和对其机械性能的影响进行了研究。  相似文献   
10.
研究了由未端化支化聚酰胺、交联剂(MBHP)和光酸产生剂(PTMA)所组成的三元负型光敏聚合物体系.其中,不对称ABB′型单体4-(2,4-二氨基苯氧基)苯甲酸3在亚磷酸三苯酯(TPP)和吡啶(Py)的存在下,通过缩合聚合得到支化聚酰胺a,由其1H-NMR数据计算得支化度(DB)为0.36.接着用肉桂酰氯对支化聚酰胺进行末端化.采用IR,1H-NMR,GPC,TG/DTA对支化聚酰胺和末端化支化聚酰胺b的结构和性能进行了表征.由85wt%末端化支化聚酰胺b、10wt%交联剂(MBHP)和5wt%光酸产生剂(PTMA)所组成的光敏聚合物体系,在100℃预烘10min,采用436nm(g-line)紫外光曝光,随后在25℃于二甲基甲酰胺中显影10s,用水漂洗,110℃后烘3min后,得到负型图案,边界清晰且分辨率达40μm.  相似文献   
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