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1.
RF磁控溅射制备TiO2薄膜及其性能讨论 总被引:3,自引:0,他引:3
用RF磁控溅射法制备了TiO2薄膜,考察了工作压强、靶与基片距离对薄膜沉积速率、均匀性的影响以及靶材料、基片及退火温度对薄膜晶体结构的影响.获得的,TiO2薄膜在很宽的温度范围(400~900℃)内保持锐钛矿型晶体结构. 相似文献
2.
采用磁控溅射方法在ITO表面沉积了不同厚度的ZnS超薄膜作为有机发光二极管(OLEDs)的缓冲层,使典型结构(ITO/TPD/Alq3/Al)的OLEDs的发光性能得到改善。ZnS缓冲层厚度对器件性能影响的实验结果表明,当ZnS缓冲层厚度为5nm时,器件电流密度提高了近2倍,亮度提高了2倍;当ZnS缓冲层厚度为10nm时,器件发光的电流效率提高18%,器件的性能得到改善。宽禁带的ZnS缓冲层对空穴从阳极到有机功能层的注入有阻碍作用,促进器件载流子平衡,提高了器件发光效率,改善了器件性能。 相似文献
3.
射频溅射法和电弧离子镀法制备的纳米TiO2薄膜性能比较 总被引:2,自引:0,他引:2
采用射频磁控溅射法和电弧离子镀法制备了纳米TiO2薄膜,并利用XRD、UV-VIS、AFM及通过亲水性和光催化实验对两种方法制备的TiO2薄膜进行了对比表征.结果表明,磁控溅射法的薄膜生长速率只有电弧离子镀法的1/30;前者仅需较低的退火温度就能形成完善的锐钛矿结构;虽然两者有相近的紫外吸收边,但是前者有较大的紫外吸收;磁控溅射法制备的TiO2薄膜表面呈现针状晶结构和具有较大的比表面积;在暗室中保存5 h后,磁控溅射法制备的TiO2膜水的接触角恢复到1°,而后者达到20°;对于光催化降解苯酚,前者有较大的降解率. 相似文献
4.
介绍单片机作为智能元件设计绕线机电脑程控器,实现了断电数据保护,不报废线圈,恢复供电可继续尚未完成的绕制之生产要求,以自动根据负栽、电网电压进行动态调整的方式,提高和保证了绕制精度,整数计数时达±1匝,小数计数时达±0.1匝,可顺序循环,也可选一组或任意次序工作,抗干扰能力强,功耗低.用CTC计数,可用于高速绕制场合。 相似文献
5.
6.
对谷胱甘肽双功能合成酶(GshF)固定化载体进行了筛选,最终选择氧化石墨烯(GO)作为GshF的固定化载体,并对其固定化条件和固定化酶学性质进行了探讨。结果表明,固定化体系最优pH为8.0,温度为4℃,固定化时间为30 min,此时最大加载率达到90%,酶活回收率为45%。固定化体系中温度和pH的适用范围都得到了进一步提高。另外,对固定化酶的贮存稳定性和循环利用性进行了研究,结果表明在常温条件下贮存时,游离酶在第3天就几乎完全失活,而固定化酶仍保留约63%的酶活力。在重复循环利用6次后,固定化酶的酶活力仍保持在80%左右。 相似文献
7.
在摇瓶培养及恒化培养研究的基础上,对含温度敏感型质粒γ干扰素工程菌高密度、高表达的发酵工艺作了探讨。摇瓶培养结果表明,菌体的良好生长状态对外源基因表达起着重要作用,工程菌于对数后期升温,干扰素滴度最高。以葡萄糖为限制性基质的恒化培养,得出了工程菌细胞生长得率与比生长速率之间的关系,同时表明工程菌升温表达前的比生长速率对表达后干扰素的比活有影响,比生长速率在0.10~0.15h~(-1)时比活最大。通过碳、氮、镁的间歇流加培养与连续流加培养,均使工程菌达到高密度与高表达,但以控制比生长速率为目的的连续流加培养较间歇流加比活提高近4倍,棕1.1×10~(10)IU/L。 相似文献
8.
9.
基于有理函数模型的QuickBird立体定位精度分析 总被引:2,自引:1,他引:1
针对有理函数模型具有与传感器类型无关,是一种通用成像模型等特点,以上海地区的QuickBird异轨立体像对为例,利用原始影像提供的有理多项式系数,探讨了基于有理函数模型的卫星影像立体定位算法,系统分析了其定位误差的分布特点.在此基础上,提出了提高基于有理函数模型立体定位精度的多种补偿模型.实验结果表明,在该区域使用一阶仿射变换模型进行补偿,在5~6个均匀分布的控制点支持下,即可达到0.6~0.8 m的平面精度和1.0 m左右的高程精度. 相似文献
10.
鱼类血清钙的测定及含量变动研究 总被引:1,自引:0,他引:1
采用高锰酸钾微量滴定法快速简便测定血清游离Ca2+.最适pH4.2~7.5,最适温度70~80°.使用该方法测定嘉陵江瓦氏黄颡鱼血清样本,结果表明,该鱼血清游离Ca2+在生殖间期的正常生理平均值为8.71±2.51mg/dl.在生殖周期,雄鱼血清游离钙水平无显著变化(P>0.05),雌鱼血清游离Ca2+水平随卵巢发育上升,产卵后逐渐下降,最高值31.24±15.61mg/dl,最低值6.59±1.30mg/dl.血清游离Ca2+在鱼类生殖期生理活动中起着重要作用. 相似文献