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在半导体制造工艺中,湿法清洗和刻蚀技术是其中重要的组成部分。文章着重介绍了半导体湿法清洗和刻蚀技术中化学品的化学配比和相关用途,并且重点讲述了化学品浓度控制的重要性及其常用的控制方式。 相似文献
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电荷耦合器件(CCD)多晶硅交叠区域绝缘介质对成品率和器件可靠性具有重要的影响。将氮化硅和二氧化硅作为CCD多晶硅层间复合绝缘介质,采用扫描电子显微镜(SEM)和电学测试系统研究了多晶硅层间氮化硅和二氧化硅复合绝缘介质对CCD多晶硅栅间距和多晶硅层间击穿电压的影响。研究结果表明,多晶硅层间复合绝缘介质中的氮化硅填充了多晶硅热氧化层的微小空隙,可以明显改善绝缘介质质量。多晶硅层间击穿电压随着氮化硅厚度的增加而增大,但太厚的氮化硅会导致CCD暗电流明显增大。由于复合绝缘介质质量好,可以减小CCD多晶硅的氧化厚度。 相似文献
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在“阳”加速器上进行了直径分别为10, 15, 20 μm, 交叉角为32°,45°,60°的钼(Mo)丝X-pinch实验。“阳”加速器产生的电流峰值约520 kA,上升时间80 ns。实验中通过X射线功率谱仪和纳秒分幅相机等仪器对Mo丝X-pinch辐射特性进行了诊断。实验表明:Mo丝X-pinch过程中会出现多次X射线爆发,箍缩过程中产生的热点辐射出能量超过3 keV的X射线,探测到的最小热点直径小于30 μm。 相似文献
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飞机电子设备电磁兼容性分析 总被引:3,自引:0,他引:3
本文分析了现代民航机载电子设备的电磁环境及引起电磁干扰的原因,并从飞机总体结构和可靠性设计两方面分析了飞机生产商和维护部门在飞机电子设备电磁兼容方面所采取的各种措施. 相似文献
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Study on the extraction and separation of rare earth with new extractants is important in the rare earth chemistry and nuclear reprocessing. In this work, the extraction of Ce(Ⅲ) with N,N,N′,N′-tetrabutylmalonamide (TBMA) in toluene from nitrate media has been investigated. The effect of the concentration of nitric acid, TBMA and salt-ing-out agent (LiNO3) and also the temperature on the distribution ratios was examined. The stoichiometries of the extracted complexes were determined to be Ce(NO3)3·3TBMA and Ce(NO3)3·4TBMA, respectively. The ap-parent extraction constants and the enthalpy of the extraction were calculated based on the extraction data, which are logKex1=3.97, logKex2=4.75 and ΔrHm?=-31.25kJ·mol-1, respectively. The IR spectra of the loaded organic phase supported the suggested extraction mechanism. 相似文献
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介绍了蓝牙的来历,蓝牙技术的指标、系统参数、协议体系结构和蓝牙应用模型,最后介绍了蓝牙技术的实际应用并对蓝牙技术的发展前景进行了展望。 相似文献
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WAP(无线应用协议)是一个开放的工业标准,代表了未来网络中移动通信网和因特网相结合的发展方向。本文分析了其最新版本WAP2.0协议的新特性及其“推”(PUSH)技术构架,并探讨了它在无线网络中的应用实现。 相似文献