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采用同步辐射光电子能谱(SRPES)结合扫描电子显微镜(SEM)和称量法,研究了中性(NH4)2S溶液钝化GaAs(100)表面,并与常规(NH4)2S碱性溶液钝化方法进行了比较- SRPES结果表明该处理方法可以产生较厚的Ga硫化物层和较强的Ga—S键,Ga的硫化物有好的稳定性-称量法表明该方法有更低的腐蚀速率-SEM结果表明该方法钝化处理的GaAs表面所产生的腐蚀坑数目少,直径小-
关键词: 相似文献
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GaAs表面S钝化方法:S气氛辉光放电法 总被引:1,自引:0,他引:1
本文报道了一种新的GaAs表面S钝化方法──S气氛辉光放电法.用光致发光光谱(PL)结合俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)研究了辉光放电S钝化的GaAs(100)表面.结果表明,与未处理的样品相比,用该方法处理后的表面复合速率大大降低,PL强度提高了将近两个数量级,而且稳定.AES谱和XPS谱测量结果表明用S气氛辉光放电的方法在GaAs(100)表面上形成了较厚的GaS薄膜. 相似文献
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