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1.
1μm宽硅深槽刻蚀技术   总被引:1,自引:1,他引:0  
王清平  郭林 《微电子学》1996,26(1):35-39
介绍了硅深槽刻蚀的基本原理和影响刻蚀效果的几个主要工艺因素。提出了一种实现1μm宽的硅深槽刻蚀工艺途径;并给出了1μm宽、8μm深、侧壁及底部光洁的硅深槽刻蚀工艺条件。  相似文献   
2.
本文从ASIC的基本特点出发,阐述了建立ASIC标准加工线(Foundry)的重要性;国内集成电路产业已经具备建立Foundry的基础,建立有中国特色的Foundry是可以有所作为的。文章介绍了作者在建立军用Foundry方面的探索和初步成果。  相似文献   
3.
齐兴义  郭林  吴越 《催化学报》2002,23(2):101-102
 详尽介绍了通过分步法,在Y型分子筛超笼中制备铜(II)- 1,10菲咯啉和8-羟基喹啉配合物(简称CuPhen/Y,CuOx/Y)的过程;活性评价结果显示同Cu/Y相比,以H2O2为氧化剂,CuPhen/Y,CuOx/Y具有特殊的催化苯酚羟化功能。  相似文献   
4.
液相合成方形PbS纳米晶的光学特性   总被引:2,自引:6,他引:2  
采用一种简单、温和的液相合成方法制备了PbS纳米晶,利用透射电镜和高分辨透射电镜对PbS纳米晶的形貌与晶型结构进行了表征.研究了PbS纳米晶的光学吸收和光致发光特性,并比较分析了包覆剂聚乙烯吡咯烷酮(PVP)和回流时间对产物光学特性的影响.结果表明:PVP分子链中的O原子与纳米晶表面吸附的游离态Pb原子形成Pb-O配位键,使产物的激子吸收大为减弱,同时引起了表面浅束缚态能量的升高,最终导致了荧光淬灭现象.  相似文献   
5.
公司治理模式可以有很多种标准和框架,而且不同国际框架的标准也是不同的。中国还要去借鉴别人不足的地方改善现有的体制。这对中国来讲是跳跃性的发展。  相似文献   
6.
郭林  聂昌庭 《大学化学》1988,3(6):39-39
由于燃烧热测定较难做成功,一般需要6—8小时。为此做了技术改进,使本实验可在4小时内顺利完成。改进前后的实验装置,如图1、图2:图t改进前的装置图2改进后的装置 1.原模底只有一个孔(图」),铁丝穿入后,易在模底顶部通电后发生短路,铁丝又细,不易操作。改进后,在模底钻两个孔(图2)这  相似文献   
7.
MCM计算机辅助设计技术   总被引:4,自引:0,他引:4  
杨邦朝  陈庆  郭林 《微电子学》2000,30(5):285-289
系统阐述了CAD技术在MCM设计中的作用、MCM CAD的环境及MCM CAD的方法和流程,指出了目前国内外MCM CAD技术的发展现状和发展趋势,分析了目前MCM CAD设计技术的研究热点。  相似文献   
8.
随着人们的生活水平逐渐提高,构建家庭影院成为了广大消费者进一步的精神追求。飞利浦全新推出的HTS8100"回音璧"家庭影院系统不仅外观设计新颖精致,而且首创性地将影音功能集于一身,只需采用一根HDMI线连接大尺寸平板电视便可以让您轻轻松松享受到家庭影院的乐趣。  相似文献   
9.
10.
The single-molecule surface-enhanced Raman scattering(SERS) spectra of Rhodamine 6G(R6G) in an aqueous environment under non-resonance conditions are studied.Series of spectra are recorded in timemapping mode,and intensity fluctuations of SERS signals and spectral diffusion are observed.The correlations between the presence frequency of SERS spectra and number of hot spots as well as the quantity of molecules in scattering volume are examined thoroughly.The results indicate that only molecules located at hot spots produce good signal-to-noise ratio Raman spectra and the origin of fluctuating SERS signals are mainly ascribed to the movement of hot spots.  相似文献   
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