反应磁控溅射沉积ITO膜的X射线衍射结构分析

本文报道了对反应磁近溅射技术沉积的ＩＴＯ透明导电膜进行Ｘ射线衍射结构分析的结果，给出了不同条件下ＩＴＯ膜的晶态结构和它与各种成膜工艺条件之间的关系。     

微执行器中连续电磁驱动的数学模型

为了指导电磁微执行器的设计与开发研究，该文用解析法求出了微执行器中电磁连续驱动的数学模型，分析了衔铁位移与励磁电流的关系曲线及其各部分的物理意义，揭示了该曲线在铁心相对磁导率变化小或影响小的情况下存在极大值和失稳现象的规律:当衔铁的位移使磁路总磁阻减小1／3时，所需励磁电流最大，继续减小磁路磁阻时，则发生失稳现象。分析结果与实验结果相吻合。     

MEMS螺线管型电感器正负胶结合的加工工艺

MEMS螺线管型电感器由于具有很多优点，其用途或潜在用途相当广泛 。为了获得高质量的MEMS螺线管型电感器，在充分利用SU-8特点的基础上，结合使用正胶AZ-4000系列和负胶SU-8系列，新开发了UV-LIGA多层微加工工艺，它主要包括：在基片上溅射Cr/Cu作为电镀种子层，涂布正胶，紫外光刻得到电镀模具，电镀Cu和FeNi分别得到线圈的下层、中层和上层以及铁芯；在完成下层和中层后，分别进行一次负胶工艺以形成电绝缘层和后续结构的支撑平台，即涂布负胶覆盖较下层结构，光刻开通往较上一层的通道并使SU-8聚合、交联以满足性能要求。实验表明该工艺是可行和实用的。它除了可用于螺线管电感器的加工，还可以用来加工其它三维结构的MEMS器件。     

微细加工技术在微光开关制造中的应用

微光开关是新一代全光通信网络中的关键器件。利用微细加工技术制造微光开关具有很多突出的优点，受到了广泛的研究。总结了几种典型的微光开关制造中运用的微细加工技术，并介绍了它们的应用和相应的特点。     

铁芯和空芯螺线管型微电感器的性能比较

为了满足RF电路、电源电路、微执行器和微传感器等领域对高性能和工艺简单的电感器的广泛需求，用正、负胶结合的微加工工艺，在硅基片上制作了有坡莫合金铁芯的和在玻璃基片上没有铁芯的、其它结构和参数均相同的两种螺线管型微电感器，测试了它们在1－40MHz频率范围的电感、电阻和Q因子，并进行了比较和讨论。其结果与现有理论知识相一致。实验证明了具有坡莫合金铁芯的螺线管型微电感器在低于30MHz的频率下使用更有意义。而无铁芯螺线管型微电感器还可以用于更高频率的场合。     

新型MEMS可变光衰减器的微磁执行器

探讨了新型可变光衰减器－光纤横向偏移型MEMS可变光衰减器的微磁驱动方式，从理论上分析了微磁执行器设计时应遵从的原理，讨论和设计了微磁执行器的各个参数，新开发了结合使用正胶（AZ－4000系列）和负胶（SU－8系列）的UV－LIGA工艺：在制作了光纤定位槽的基片上溅射Cr/Cu作为电镀种子层，涂布正胶，紫外光刻得到电镀模具，电镀Cu和FeNi分别得到线圈的下层、中层和上层以及铁芯；在完成下层和中层后，分别进行一次负胶工艺以形成电绝缘层和后续结构的支撑平台，即涂布负胶覆盖较下层结构，光刻开出了通往较上一层的通道并使SU－8聚合、交联以满足性能要求。并运用该工艺实现了微磁执行器。     

Novel MEMS variable optical attenuator

A novel MEMS variable optical attenuator (VOA), which has completely different attenuation mechanism from those in literatures, is proposed and demonstrated in this paper. The basic operation principle is that the optical power coupled between two initially aligned single-mode fibers will be continuously attenuated while the end of one of the fibers is deflected from the initial position. A micromachined solenoid type inductor with a U-shaped permalloy magnetic core is used to attract the deflectable fiber that has a permalloy coat on its end. To fabricate the multi-layer three-dimensional inductive component, a new UV-LIGA process for thick photoresists is developed, combining advantages of both SU-8 and AZ-4000 series photoresists. The inductive component is approximately 1.7 mm×1.3 mm×50μm in size and has a low resistance value (- 2.1Ω). The whole size of the VOA before packaging is 30 mmx2 mmx0.6 mm. The first prototype shows less then 3-dB insertion loss at 0-dB attenuation and nearly 40-dB att     

交流磁控溅射技术及其应用

本文阐述了交流溅射技术的原理，特点及其应用。     

氧化铟锡透明导电玻璃可见光透射率的研究

随着近年来平板显示工业的飞速发展，ＩＴＯ透明导电玻璃获得了广泛的应用。透明导电玻璃的可见光诱射率和ＩＴＯ膜的膜厚有关，本文通过实验数据和理论计算，给出了它们之间的关系。     

用于Gb级DRAM的TiO2薄膜结构的研究

运用反应磁控溅技术制备了应用于Ｇｂ级ＤＲＡＭ中的ＴｉＯ２薄膜。本文报道了对该薄膜进行Ｘ射线衍射结构分析所得到的详细结果，并给出了薄膜结构同热处理条件之间的关系。