热沉尺寸对半导体激光器有源区温度的影响

半导体激光器随着输出功率的提高在各领域的应用日益广泛,但芯片温度升高引起的功率饱和问题仍然是目前研究的重点之一。利用ANSYS软件对工作波长为808nm的单芯片半导体激光器的芯片有源区温度与封装热沉尺寸的关系进行了稳态热分析,模拟得出不同热沉参数条件下封装激光器芯片有源区温度的变化曲线,并提出一种散热较好的结构方案。     

半导体激光器腔面增透膜AIN薄膜的制备

提出了一种新的半导体激光器增透膜——A1N膜,并用matlab软件模拟分析了不同腔面反射率对激光器输出功率的影响,得到激光器最大输出功率时前后腔面的反射率的最佳值.采用反应磁控溅射技术,利用高纯铝靶(99.999％)和N2+ Ar的混合气体在K9玻璃基片上沉积了AlN薄膜.利用Filmetrics系统对薄膜进行光学性能...     

基于无杂质空位混杂法制备带有无吸收窗口的940nm GaInP/GaAsP/GaInAs半导体激光器研究

为提高940nm半导体激光器抗灾变性光学损伤(COD)能力,采用无杂质空位量子阱混杂技术制备了带有无吸收窗口的940nm GaInP/GaAsP/GaInAs半导体激光器。借助光致发光光谱分析了退火温度和介质膜厚度对GaInP/GaAsP/GaInAs单量子阱混杂的影响;通过电化学电容-电压(EC-V)方法检测了经高温退火后激光器外延片的掺杂浓度分布的变化情况。实验发现,在875℃快速热退火条件下,带有磁控溅射法制备的200nm厚的SiO2盖层样品发生蓝移达29.8nm,而电子束蒸发法制备的200nm厚TiO2样品在相同退火条件下蓝移量仅为4.3nm。两种方法分别对蓝移起到很好的促进和抑制作用。将优化后的条件用于带有窗口结构的激光器器件制备,其抗COD能力提高了1.6倍。     

Influence of sputtering pressure on optical constants of a-GaAs1-xNx thin films*

Amorphous GaAs_1-xN_x(a-GaAs_1-xN_x) thin films have been deposited at room temperature by a reactive magnetron sputtering technique on glass substrates with different sputtering pressures.The thickness,nitrogen content,carrier concentration and transmittance of the as-deposited films were determined experimentally.The influence of sputtering pressure on the optical band gap,refractive index and dispersion parameters（E_o,E_d） has been investigated.An analysis of the absorption coefficient revealed a direct optical transition characterizing the asdeposited films.The refractive index dispersions of the as-deposited a-GaAs_1-xN_x films fitted well to the Cauchy dispersion relation and the Wemple model.     

溅射压力对制备a-GaAs1-xNx 薄膜光学常数的影响

采用反应磁控溅射法在室温条件下制备了a-GaAs_1-xN_x 薄膜。实验测定了薄膜厚度、氮含量、载流子浓度和光学透过率及并研究了其随溅射压的变化。系统研究了溅射压对所制备薄膜的光学带隙、折射率和色散参数的影响。所制备的薄膜为直接带隙材料,利用Cauchy和Wemple模型能够很好地拟合所制备薄膜的折射率色散曲线。