感应耦合等离子体技术用于熔融石英表面凹凸光栅的刻蚀

感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术是一种新的干法刻蚀技术,具有刻蚀速率高和各向异性刻蚀等优点,并且能够独立控制等离子体密度和自偏置电压。然而,在利用这种技术进行刻蚀的过程中,经常会发生聚合物的沉积,从而阻碍了刻蚀过程的继续。我们报道了在熔融石英表面刻蚀光栅时不产生聚合物沉积的技术,给出了优化参数。所制作的熔融石英普通光栅和600线／mm的高密度光栅的表面很干净,没有聚合物沉积。光栅衍射效率的实际测量值和预期的理论值吻合得很好。最后还研究了ICP技术的刻蚀速度,刻蚀均匀性和过程可重复性等参数。     

一种基于声光可调谐滤波器的新型温度传感破

集成光学声光可调谐滤波器 (IntegratedAcousto opticTunableFilter,IAOTF)的滤波特性对外界环境温度的变化特别敏感 ,因此可以将声光可调谐滤波器 (AOTF)滤波特性的中心频率的变化作为已知条件 ,反过来判断外界环境温度的变化。利用这一思想 ,制成了基于集成光学声光可调谐滤波器的温度传感器。这种新型的温度传感器测温范围在 - 4 0℃到 15 0℃之间 ,精度能达到 0 0 0 1℃ ,更重要的是能做成分布型的温度传感器组 ,进行远程集中监控 ,这些优点使得这种新型的温度传感器在高精度和分布式温度传感领域具有重要的应用价值     

感应耦合等离子休技术用于熔融石英表面凹凸光栅的刻蚀

感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术是一种新的干法刻蚀技术，具有刻蚀速率高和各向异性刻蚀等优点，并且能够独立控制等离子体密度和自偏置电压。然而，在利用这种技术进行刻蚀的过程中，经常会发生聚合物的沉积，从而阻碍了刻蚀过程的继续。我们报道了在熔融石英表面刻蚀光栅时不产生聚合物沉积的技术，给出了优化参数。所制作的熔融石英普通光栅和600线／mm的高密度光栅的表面很干净，没有聚合物沉积。光栅衍射效率的实际测量值和预期的理论值吻合得很好。最后还研究了ICP技术的刻蚀速度．刻蚀均匀性和过程可重复性等参数。     

深刻蚀高密度熔融石英光栅

深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件,具有衍射效率高、成本低、抗损伤,能在高强度激光条件下工作等优点。给出了利用感应耦合等离子体(ICP)技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程,并在一定的优化条件下制作了一系列不同周期、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅。实验得到的最大刻蚀深度为4μm,并且在600 l/mm的高密度条件下得到了刻蚀深度为1.9μm的高深宽比石英光栅。光栅侧壁陡直,表面平整,没有聚合物沉积。所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境、光谱仪、高效滤波器和波分复用系统等领域中有非常广泛的用途。     

偏振光栅自成像效应

中国科学院上海光学精密机械研究所周常河课题组发现了高密度光栅的偏振自成像效应。该效应显示在光栅周期接近光波波长时，入射光偏振态的改变将导致不同的光栅自成像。     

高频补偿倾斜电极型宽带声光叉指换能器

提出了一种新型的宽带声光表面波叉指换能器 (SAW IDT) ,该换能器应用双梯形倾斜电极 ,可对单梯形倾斜电极IDT通带的高频成分进行补偿 ,使通带更宽更平直 ,并无需外补偿网络。通过计算机模拟得出IDT的优化高频补偿因子 ρ=0 12 及其他的优化参数。该器件以Y切X传Ti扩散LiNbO3 作为光波导 ,以～ 15 0nm厚的SiO2 /In2 O3 薄膜作为声波导 ,声孔径W0 =110 μm ,叉指对数 N =9。IDT的中心频率为 187 7MHz,Bragg声光带宽为 5 5 3MHz,通带斜率为 0 0 0 ,通带凹陷深度 <1 0dB。当模转换效率为 99%时 ,测得射频 (RF)驱动功率为 4 5mW ,该器件可望作为 1 15～ 1 6 5 μm红外频谱分析仪的分光器件