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回顾了中子单粒子研究的国内外发展情况,介绍了近几年西北核技术研究所在西安脉冲堆开展的低能中子单粒子效应研究进展。比较了稳态与脉冲工况下中子单粒子效应的异同性;分析了含有SRAM结构器件随着特征尺寸的减小,中子单粒子效应敏感性加剧的物理机制。分析认为目前中子单粒子效应已成为小尺寸大规模互补金属氧化物半导体器件的主要中子效应表现;中子辐射效应研究中,除了位移损伤效应以外还必需重视由中子电离造成的中子单粒子效应。 相似文献
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石墨炉原子吸收光谱法间接测量尿样中氨基多糖含量 总被引:2,自引:0,他引:2
本文采用阿利新蓝(AlcianBlue)与尿样中氨基多糖(以下称GAG)在pH=5.8的醋酸钠溶液中,发生沉淀反应生成GAG铜复合物。离心分离沉淀物,以石墨炉原子吸收光谱测定沉淀物中铜含量,间接计算GAG含量。本文对尿样加入染液浓度,沉淀反应平衡时间;沉淀物的洗涤剂、洗涤次数等进行了探讨,确定了最佳实验条件,实测了60例健康人尿中GAG含量,与文献报导值一致。 相似文献
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敏化LiF(Mg, Ti)热释光剂量片(LiF(Mg, Ti)-M TLD)是用于强脉冲辐射场剂量测量的主要探测器。对国内4个厂家生产的敏化LiF(Mg, Ti)热释光剂量片进行了射线响应的一致性、重复性和线性的比较研究, 测量了射线辐照后4种敏化LiF(Mg, Ti)热释光剂量片试验样品的吸收剂量读数平均值及标准偏差, 比较了4种样品在不同吸收剂量下的灵敏度及其变异系数, 并获得了超出线性上限的大剂量辐照对剂量片线性响应特性的影响规律。研究结果表明, 北京防化研究院生产的剂量片性能最优, 试验样品在吸收剂量为6 Gy(Si)时读数变异系数为3.11%, 重复性指标在5%以内, 线性响应上限在50~100 Gy(Si)之间。吸收剂量为150 Gy(Si)并退火后再次使用时的灵敏度漂移幅度约为11%。 相似文献
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多孔硅的制备条件对其光致发光特性的影响 总被引:2,自引:1,他引:1
不同的实验条件下制备的多孔硅的光致发光(PL)特性是不同的,这是许多研究产生分歧的主要原因。对比分析了阳极氧化电流密度、阳极氧化时间、溶液浓度以及自然氧化时间对多孔硅光致发光光谱的影响。认为在一定的范围内,多孔硅的发光峰位会随电流密度的增大而蓝移,要获得较强的发光,需要选择合适的电流密度;随着腐蚀时间的延长,多孔硅的发光峰位也发生蓝移。当HF酸的浓度较小时,峰位随浓度的增大表现为向低能移动;而当HF酸的浓度较大时,峰位随浓度的增大则表现为移向高能。多孔硅在空气中自然氧化,其发光峰位发生蓝移,而发射强度随放置时间的延长而降低。并用量子限制模型和发光中心模型对实验结果进行解释。 相似文献
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介绍了几种加固和非加固 MOS电路的质子辐照总剂量效应实验 ,质子束的能量为 9、 7、 5、 2 Me V.实验结果表明 ,在相同的吸收剂量下 ,MOS器件累积电离辐射损伤与质子能量成正比 .还给出了栅极偏压对器件质子辐射损伤的影响 ,结果认为 ,对于 NMOSFET,不论是加固器件 ,还是非加固器件 ,在 +5 V的栅压偏置下 ,器件的辐射损伤比 0 V栅压下的损伤严重 ,对于加固器件 ,辐射感生界面态的密度也较高 ;而加固型 PMOSFET,在 0 V的栅压下 ,辐射损伤比 - 5 V下严重 ,且界面态的密度高 相似文献
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介绍环境水体中的环氧氯丙烷监测分析方法及相关的研究进展。相关文献显示,用盐酸溶液(1+1)酸化样品有利于样品保存,采用全自动吹扫捕集处理技术,对吹扫时间、温度、色谱柱和检测器等参数进行优化。如吹扫时间设定为13 min,吹扫温度设定为35℃,经DB-624毛细管色谱柱分离,质量选择检测器进行检测,可以更好实现对水体中痕量环氧氯丙烷的富集、解析和检测。在各种环氧氯丙烷的测定方法中,选择吹扫捕集–气相色谱和质谱联用法,可实现全自动的样品前处理,其高效而且不用接触有机溶剂,检测方法步骤简单、准确性高、选择性好,在水质环氧氯丙烷测定方面具有广阔的应用前景。 相似文献