光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术

介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术，包括：(1）光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术；(2）投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术；(3）接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术；(4）大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术；(5）电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术. 该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作，实现了20nm线条曝光，研制成功了27nm CMOS器件；进行了50nm单电子器件的演试；并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造.     

基于离散Hartley变换的OFDM实现模型

本文研究离散Hartley变换在OFDM系统中的应用,提出一种基于离散Hartley变换的OFDM实现模型.分析了新模型在加性高斯白噪声信道下的传输性能和算法复杂度.新模型与基于离散傅立叶变换(DFT)的OFDM系统具有相同的传输性能,但计算复杂度降低,时效性提高,且调制与解调算法一致.     

用于 NH3 选择催化还原 NO 反应的新型 Ce-P-O 催化剂

 报道了一种新型的可用于氨选择催化还原氮氧化物的 Ce-P-O 催化剂. 在空速为 20 000 h?1, 较宽的温度范围内经 500 oC 焙烧的 Ce-P-O 催化剂上表现出了较高的 NO 转化率 (可达到 90% 以上). 与 V-W-Ti 催化剂相比, 该催化剂具有一定的耐水蒸气和 SO2 能力以及较好的抗碱中毒性能.     

电缆探伤仪“零误差”的实现方法及应用

本文提出“零误差”及“可测率”的概念,并介绍了“零误差”探伤仪的实现步骤方法,该方法是建立在对上万条故障电缆的分析和研究基础之上的,具有“零误差”,高可测率的特点.适用于高压交联、矿用电缆、普通塑力电缆、橡套电缆、通讯电缆、船用电缆等各种电缆,对电缆的断线、低阻击穿、泄漏性高阻击穿、闪络性高阻击穿、地埋电缆击穿等故障均...     

超宽带无线通信技术3

基于超宽带(UWB)技术自身的特点,UWB在短距离无线连接领域将有广阔的发展前景.目前,各大标准化组织和团体正在加紧制订基于UWB的各种技术标准.前两期主要介绍了超宽带技术的概念和基本原理、信道特征及接收机关键技术.本期为本讲座的最后一期,将介绍超宽带技术的应用前景和标准化情况.     

浅析计算机网络信息安全

互联网的出现在给我们生活工作带来了极大便利的同时,也带来了网络信息的安全隐患。由于计算机网络的特性,再加上使用者本身存在的技术弱点和人为的疏忽,致使网络易受计算机病毒、黑客或恶意软件的侵害。面对侵袭网络安全的种种威胁,必须考虑信息的安全这个至关重要的问题。     

一种出租车辆调度与管理系统

介绍了一种出租车辆调度与管理系统的硬件设计原理和软件编制。     

光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术

介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑混合曝光技术;(5)电子束与光学曝光系统混合光刻对准标记制作技术.该技术已成功地应用于纳米器件和集成电路的研制工作,实现了20nm线条曝光,研制成功了27n m CMOS器件;进行了50nm单电子器件的演试;并广泛地用于100nm化合物器件和其他微/纳米结构的制造.     

193 nm光刻散射条技术研究

介绍了193nm光刻中的散射条技术，并利用标量衍射和傅里叶光学理论，对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析，从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH，对散射条的参数进行了优化，并总结出193nm光刻中孤立线散射条的优化方法。