Banach空间中优化问题的最优性条件

首先在Contingent切锥意义下界定了Banach空间中非空集合的伪切锥和伪凸性的概念，并讨论了相应的性质，然后针对可微优化问题，在广义凸性假设下，建立了最优性条件。     

静态非线性投入产出模型的若干数学问题

SomeMathematicalProblemsoftheNolinearOutput-InputfortheStaticModelHeJianminWangDongHaoJinliangInstituteofSystemsScience,AcademicSinica100080一、非线性投入产出模型的提出建立在同质性和比例性假定上的列昂惕夫投入产出模型，假定了每一部门只有单一的消耗结构并只生产一种产品，直接消耗系数不变且非负。因假定极大地简化了经济现实，它在解决短期经济和社会问题方面取得了成功，但在长期预测和计划等方面并不十分准确。为使投入产出模型能更好地进行长期预测，人们提出各种方法来修正直接消耗系数。例如：1.专家评估法…     

IN写Internet的互连

随着Internet的飞速发展,Internet开始涉及到传统电信领域的业务,并对传统的电信网产生了很大的冲击。其优势主要表现在两个方面:在承载媒体上,IP电话具备了传统电信网的语音传送功能,并以特殊的价格优势占领了一部分长途电话市场;在终端用户上,Internet的用户终端比传统的电话交换机终端功能强大     

金属超材料TEM-TE11高功率微波模式转换器

利用高折射率的金属超材料作为移相器,设计了一种紧凑型高功率微波TEM-TE11模式转换器。通过研究同轴扇形金属栅格超材料的传输特性,得到高折射率的全金属超材料。采用CST Microwave Studio 软件对金属超材料TEM-TE11模式转换器进行了数值模拟,结果显示：该转换器在1.56 GHz附近转换效率大于96%,相对带宽约4%,功率容量不低于2 GW,系统纵向长度仅0.42个波长。将所设计的模式转换器结合L波段磁绝缘线振荡器开展了一体化设计,在器件输出口得到了TE11模高功率微波输出。     

基于分组的NandFlash块管理方法

为有效管理NandFlash存储空间,提出了单替换块组相联映射方法.将NandFlash擦除块的集合划分成若干虚拟组,逻辑空间和虚拟空间映射时,组内的页任意映射,组间一一映射.一个虚拟组只设置一个替换块,用于组内无效页的回收和重用.该方法能够保持较高的空间利用率,垃圾回收时间确定.利用存储设备访问的局部性,仅把需要的组映射表装入内存,内存开销小.分析表明,虚拟组大小为16个擦除块时工程实践是合适的.     

聚合物单晶生长的三维相场模拟研究

利用元胞自动机方法与相场模型的结合建立新型三维模拟相场模型.同时,为模拟真实的、三维的高分子结晶的过程,采用元胞自动机方法离散方程,且元胞几何形状的选取符合真实聚合物晶格扩散方式的物理规律,以及新建立的相场模型套用间规聚丙烯的实验参数.利用该模型模拟了多种三维立方体或者薄层的晶体形貌及其相互之间的演化过程,包括正方形、长方形、菱形、六边形、多层单晶等.通过模拟结果与真实形貌作对比来证明所建立的相场模型真实可靠性.     

炸药熔铸过程数值模拟研究

采用数值模拟方法研究了熔铸炸药常压和加压条件下凝固过程中的温度场,得到了温度的冷却曲线、固液界面的变化过程以及缩孔缩松缺陷可能出现的位置。常压条件下关注位置的计算温度值与实测温度值误差在10%以内;加压在5~20个大气压之间时,随着压力的增大,炸药件的缩孔缩松缺陷显著减少。模拟结果表明加压凝固工艺能有效地消除熔铸炸药的缩孔缩松缺陷。     

企业信用信息共享服务分析

对信用信息开放共享过程中存在的信息孤岛、技术壁垒等问题进行分析,总结共享服务平台系统功能及安全方案,以有效整合政府部门在公共管理职能过程形成的社会成员信用信息,实现信用信息互联互通和资源共享.     

HEM11模磁绝缘线振荡器的高频分析

作为小型化和紧凑型的高功率微波源,磁绝缘线振荡器(MILO)在过去十几年里得到了广泛的研究和发展.在大多数研究中,最低的对称模一直被当作器件的主模.然而,由于结构的对称性或者电子发射均匀度不理想等原因,很容易激励起非对称模式.计算了MILO同轴结构中同时包含对称模和非对称模的本征方程.在此基础上,通过对结构的优化设计,提出了一种HEM..模工作的MILO,并开展了原理性实验.在二极管的电压为480 kV,电流为39kA条件下得到了功率为1.2 GW,脉冲宽度为加40 ns 的微波输出,功率转换效率约为6.5%,微波频率为1.98 GHz,模式为HEM11模.     

绿色环保化学机械抛光液的研究进展

原子级加工制造是实现半导体晶圆原子尺度超光滑表面的有效途径.作为大尺寸高精密功能材料的原子级表面制造的重要加工手段之一,化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)凭借化学腐蚀和机械磨削的耦合协同作用,成为实现先进材料或器件超光滑无损伤表面平坦化加工的关键技术,在航空、航天、微电子等众多领域得到了广泛应用.然而,为了实现原子层级超滑表面的制备,CMP工艺中常采用的化学腐蚀和机械磨削方法需要使用具有强烈腐蚀性和高毒性的危险化学品,对生态系统产生了不可逆转的危害.因此,本文以绿色环保高性能抛光液作为对象,对加工原子量级表面所采用的化学添加剂进行分类总结,详尽分析在CMP过程中化学添加剂对材料表面性质调制的作用机理,为在原子级尺度下改善表面性质提供可参考的依据.最后,提出了CMP抛光液在原子级加工研究中面临的挑战,并对未来抛光液发展方向作出了展望,这对原子尺度表面精度的进一步提升具有深远的现实意义.