改进的PCVD工艺制造高掺硼材料的性能研究

介绍了一种用于制造光纤的高掺硼石英材料的性能.简单回顾基本的工艺条件和关键工艺参数之后,主要讨论材料性能,如玻璃结构、折射率、粘度、热膨胀系数和残余应力等.另外还介绍了两种高掺硼光棒的性能.     

Gigabit以太网多模光纤的发展

随着信息时代的发展,人们对数据传输的需求越来越大,同时对于系统的带宽要求也越来越高。在局域网(LAN)领域,相似的情况也存在。纵观以太网在90年代的发展,从低速以太网(10Mbit/s)、高速以太网(100Mbit/s),到1998通过的Gbit/s以太网标准IEEE802.3z以及计划将在今年通过的10Gbit/s以太网标准IEEE802.3ae,其发展的速度是惊人的。     

HiBand--吉比特以太网多模光纤

1前言 随着信息时代的到来,社会对于信息的需求越来越大,同时对于系统的带宽要求也越来越高.在局域网(LAN)领域也存在相似的情况,纵观以太网在90年代的发展,从低速(10 Mbit/s)到高速(100 Mbit/s)以太网,到1998通过的吉比特以太网标准IEEE 802.3z,以及计划将在今年通过的10吉比特以太网标准IEEE 802.3ae,其发展速度是惊人的.作为系统传输的重要媒介,光纤的性能也同样要求不断地提高.本文主要介绍一种针对吉比特以太网标准开发的新一代多模光纤--HiBand多模光纤的性能及其研发过程.     

TiAl合金的激光气相氮化

使用激光气相合金化方法，氮气气氛下在铝钛合金表面进行氮化处理。结果发现：氮化层由ＴｉＮ和ＴｉＡｌ相构成，ＴｉＮ以枝晶形式在氮化层均匀分布。材料横截面显微硬度连续变化。氮化程度随作用时间的增加而增加，辐照的激光能量密度越高，氮化层的厚度越大。当激光功率密度、扫描速度、氮气喷射压强分别为３．３５×１０５Ｗ·ｃｍ－２，３００ｍｍ·ｍｉｎ－１，０．３５ＭＰａ时，表面显微硬度为ＨＶ７００，氮化层的厚度达到２００μｍ。比较表明，相同条件时，铝钛合金的氮化程度和氮化层厚度均小于金属钛。     

激光与等离子体相互作用中离子声波的特征

采用Ｃａｕｃｈｙ－Ｇｒｅｅｎ积分公式和鞍点法，分析了激光与等离子体相互作用中ＳＢＢＳ的非稳定性．并数字模拟了在这种相互作用中离子声波的奇异相干特征．     

新型宽带多模光纤研究

成功制备出一种新型抗弯曲宽带多模光纤,介绍该光纤的设计、制备以及表征结果,并通过100Gbit/s SWDM4传输实验,将其传输性能与传统OM4光纤进行对比。     

反应淀积氮化铝薄膜及其性质的研究

实验使用脉冲激光熔蚀金属铝靶,使溅射的物质粒子和真空室中的氮气反应以淀积氮化铝（ＡｌＮ）薄膜,淀积时引入氮气直流放电以促使Ａｌ和Ｎ发生完全反应制备高质量符合化学计量比的ＡｌＮ薄膜。讨论了脉冲能量密度、基底温度、气体放电对所沉积薄膜组织结构的影响。实验结果表明,当ＤＥ＝１．０Ｊ·ｃｍ－２,ＰＮ２＝１３．３３３ｋＰａ,Ｔｓｕｂ＝２００℃,Ｖ＝６５０Ｖ,ｆ＝５Ｈｚ,ｄＳ－Ｔ＝４ｃｍ时,高质量的ＡｌＮ薄膜被成功地沉积于Ｓｉ（１００）基片上。分析表明薄膜是具有高取向性的ＡｌＮ（１００）多晶膜,薄膜的能带间隙约为６．２ｅＶ,其电阻率和击穿电场分别为２×１０１３Ω·ｃｍ和３×１０６Ｖ·ｃｍ－１。     

新型大芯径塑料包层光纤

介绍了一种新型大芯径塑料包层光纤的研制和开发,作为适合工业、医疗、激光等领域应用的塑料包层光纤,拥有大的光纤芯层直径和高的数值孔径,能够提供非常便利和高效的耦合操作和效率.该光纤可使用在850nm窗口,通过对光纤几何、光学等性能的测试,能够满足应用所需要的光学参数.同时对塑料包层光纤的机械性能和温度稳定性能进行了全面的测试,保证了该光纤在实际使用过程中能够满足操作和使用寿命等工程应用的需求.     

激光熔蚀反应淀积AlN薄膜残余应力及热稳定性的研究

激光熔蚀反应淀积于 Si(10 0 ) ,Si(111)基底上的 Al N薄膜是高质量高取向性的 Al N多晶膜 ,薄膜与基底的取向关系为 Al N(10 0 )∥ Si(10 0 ) ,Al N(110 )∥ Si(111)。薄膜具有较低的残余应力和较好的热稳定性。实验结果表明 ,当氮气压强和放电电压分别为 10 0× 133.33Pa和 6 50 V时 ,薄膜的残余应力低于 3GPa。此样品在纯氧环境 50 0℃时 ,经过 3h的退火 ,红外吸收谱检测未发现有Al2 O3 特征峰出现。对 Al N/Cu双层膜的研究表明所制备的 Al N薄膜在金属薄膜的防护上也有潜在的应用价值。     

激光输出不稳定性对激光与物质热作用的影响

研究了激光与物质相互作用中激光输出不稳定性对材料中温度场颁的影响以及减少这种影响的途径。首次在激光热传导方程中引入噪声项,推导了噪声影响下该激光热传导方程的解。研究发现,温度场的分布受噪声的影响,材料表面温度的涨落较大,而材料的深处涨落较小;温度场的涨落还和激光加热的过程有关,随激光加热时间的增长,温度场的涨落增大。此外,材料的热传导系数、热扩散率和发射率均对温度场的涨落有影响。文中还提出了减小激