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ULSI制备中多层布线导体铜的抛光液与抛光技术的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了在碱性浆料中ULSI多层布线导体铜化学机械抛光的模型,对铜CMP所需达到的平面化、选择性、抛光速率控制、浆料的稳定及洁净度、抛光液成分的优化选择进行了实验研究。 相似文献
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镶嵌钨的化学机械抛光的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究的是ULSI镶嵌钨CMP的选择性,化学与机械作用匹配,桨料的悬浮及存放和后清洗等问题。 相似文献
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ULSI制备中多层布线导体铜的抛光液与抛光技术的研究 总被引:2,自引:1,他引:1
提出了在碱性浆料中ULSI多层布线导体铜化学机械抛光的模型,对铜CMP所需达到的平面化、选择性、抛光速率控制、浆料的稳定及洁净度、抛光液成分的优化选择进行了实验研究。 相似文献
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